[发明专利]一种提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法在审
申请号: | 201910293996.2 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN110112135A | 公开(公告)日: | 2019-08-09 |
发明(设计)人: | 陈杰智;曹芮;杨文静 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | H01L27/1157 | 分类号: | H01L27/1157;H01L21/324 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 陈桂玲 |
地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三维 编程操作 擦除状态 高温退火 擦除 退火 修复 存储单元 数据损坏 用户设定 存储器 错误率 减小 写入 架构 | ||
1.一种提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:
基于三维架构NAND闪存存储器,对于进行多次擦除和编程操作的器件,当BER到达用户设定的阈值后,将存储器最后保持为擦除状态,再对器件进行退火。
2.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:所述BER的检测是对NAND矩阵中的单个NAND器件进行检测,或者是对单个器件中的一个Block进行检测。
3.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:所述退火是在150℃-250℃的温度下保持1-72小时,之后在常温下冷却。
4.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:所述退火是在180-220度保持2小时-20小时,之后在常温下冷却。
5.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:所述退火条件是在200度保持3个小时,之后在常温下冷却。
6.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:所述退火通过以下途径实现:通过芯片下方的电路对检测后的Block所在的芯片进行退火,或者是将检测后的Block所在的芯片从NAND矩阵中取出进行退火。
7.根据权利要求1所述提高三维NAND闪存存储器耐久性的方法,其特征是:将存储器最后保持为擦除状态时,如果在擦除之前要对之前存储的信息进行保存,将信息先复制到相邻的NAND闪存存储器或相邻的Block中。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的