[发明专利]等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种等离子体处理装置，能够减少调制高频电力的反射。在一个实施方式的等离子体处理装置中，高频电源构成为输出以以下方式生成的调制高频电力，第一期间的电力水平比与第一期间交替的第二期间的电力水平高。匹配器构成为将第一期间内的监视期间的高频电源的负载侧的阻抗设定为与高频电源的输出阻抗不同的阻抗。监视期间是在从第一期间的开始时间点起经过规定时间长度后开始的期间。高频电源构成为，调整调制高频电力的电力水平，以使行波的电力水平与反射波的电力水平之差、即负载功率水平成为指定的电力水平。

技术领域

本公开的实施方式涉及一种等离子体处理装置。

背景技术

在电子器件的制造中使用等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室、电极、高频电源以及匹配器。从高频电源向电极供给高频电力，以激励腔室内的气体来生成等离子体。匹配器构成为使高频电源的负载侧的阻抗与高频电源的输出阻抗匹配。

提出有在等离子体处理装置中使用以以下方式进行了调制的高频电力(以下称作“调制高频电力”)，高频电力的电力水平交替地增减。更详细而言，以以下方式生成调制高频电力，第一期间的调制高频电力的电力水平比与第一期间交替的第二期间的调制高频电力的电力水平高。关于调制高频电力的利用，在专利文献1中有所记载。

在使用调制高频电力的情况下，匹配器以使在第一期间内的监视期间测定出的负载侧的阻抗与高频电源的输出阻抗(例如50+j0[Ω]的匹配点)匹配的方式动作。监视期间是在从第一期间的开始时间点起经过规定时间长度后开始的期间。像这样设定监视期间是因为在第一期间刚刚开始时反射波电力大。

专利文献1：日本特开2013-125892号公报

发明内容

发明要解决的问题

在使用调制高频电力的情况下，即使将负载侧的阻抗调整为匹配点，有时也因高频电力的反射而导致高频电力不与等离子体耦合的期间持久。因而，要求能够减少调制高频电力的反射。

用于解决问题的方案

在一个方式中提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置具备腔室、高频电源、电极以及匹配器。电极与所述高频电源电连接，以在腔室内生成等离子体。匹配器连接在高频电源与电极之间。高频电源构成为，输出以以下方式生成的高频电力(以下称作“调制高频电力”)，第一期间的电力水平比与第一期间交替的第二期间的电力水平高。匹配器构成为，将第一期间内的监视期间的高频电源的负载侧的阻抗设定为与高频电源的输出阻抗不同的阻抗。监视期间是在从第一期间的开始时间点起经过规定时间长度后开始的期间。高频电源构成为，调整高频电力的电力水平以使行波的电力水平与反射波的电力水平之差即负载功率水平成为指定的电力水平。

在一个方式中，在等离子体处理装置中，在使用调制高频电力的情况下，将监视期间的负载侧的阻抗设定为与高频电源的输出阻抗(匹配点)不同的阻抗。其结果，调制高频电力的反射减少。在负载侧的阻抗与匹配点不同的情况下，虽然无法完全消除反射，但是调整高频电力的电力水平以使负载功率水平成为指定的电力水平，因此指定的电力水平的调制高频电力与等离子体耦合。

在一个实施方式中，匹配器以使高频电力的反射系数的绝对值成为指定的值的方式设定负载侧的阻抗。在一个实施方式中，指定的值为0.3以上且0.5以下的范围内的值。

发明的效果

如以上说明的那样，能够减少调制高频电力的反射。

附图说明

图1是概要地表示一个实施方式所涉及的等离子体处理装置的图。

图2是表示第一模式的时间图的一例的图。