[发明专利]一种并行探测荧光发射差分显微成像的方法和装置在审
申请号: | 201910292539.1 | 申请日: | 2019-04-12 |
公开(公告)号: | CN110118726A | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 匡翠方;陈宇宸;张乘风;徐良;刘旭;李海峰 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G01N21/01 | 分类号: | G01N21/01;G01N21/64 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 郑红莉 |
地址: | 310013 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 并行探测 荧光信号 光强 方法和装置 待测样品 显微成像 相位调制 荧光发射 相位图 调制 偏振光 共聚焦显微系统 归一化处理 探测器阵列 差分信号 二维扫描 激光光束 两次扫描 图案切换 线偏振光 圆偏振光 激光器 传统的 分辨率 线偏光 信噪比 转换 对线 投射 涡旋 相减 改装 图案 重复 | ||
1.一种并行探测荧光发射差分显微成像的方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)激光器发出激光光束,准直后转换为线偏振光;
2)对所述线偏振光进行相位调制,调制图案为0相位图,其调制函数为f1(r,θ)=0,其中r为光束内某一点到光轴的距离,θ为该点垂直光轴的剖平面上位置极坐标矢量与极轴的夹角;
3)相位调制后的线偏振光转换为圆偏振光,并投射在待测样品上激发出荧光信号;
4)收集的荧光信号通过多模光纤阵列进入与多模光纤阵列内光纤数量对应的探测器阵列内,归一化处理获得并行探测荧光信号光强I1(x,y),其中x,y为样品上扫描点的二维坐标;
5)将步骤2)中的调制图案切换为涡旋相位图,其调制函数为f1(r,θ)=θ,其中r为光束内某一点到光轴的距离,θ为该点垂直光轴的剖平面上位置极坐标矢量与极轴的夹角;
6)重复步骤3)和步骤4),再次获得并行探测荧光信号光强I2(x,y),其中x,y为样品上扫描点的二维坐标;
7)最终的并行探测差分信号光强I(x,y)由两次扫描获得的并行探测荧光信号光强计算得到,计算公式为I(x,y)=I1(x,y)-βI2(x,y),其中β为经验参数。
2.如权利要求1所述的并行探测荧光发射差分显微成像的方法,其特征在于:所述线偏振光为p偏振光。
3.如权利要求1所述的并行探测荧光发射差分显微成像的方法,其特征在于:所述步骤2)中调制后的激光束为高斯光束。
4.如权利要求1所述的并行探测荧光发射差分显微成像的方法,其特征在于:所述步骤5)中调制后的激光束为空心光束。
5.如权利要求1所述的并行探测荧光发射差分显微成像的方法,其特征在于:所述的并行探测差分信号光强值I(x,y)为负时,I(x,y)=0。
6.一种并行探测荧光发射差分显微成像的装置,包括产生激发光束的照明系统和收集样品发出荧光信号的探测系统,其特征在于:
所述照明系统的光轴上依次设有:激光器;将激光光束转换为准直的p偏振光的准直物镜、起偏器和二分之一波片;对p偏光进行相位调制的空间光调制器;将p偏光转换为圆偏光的四分之一波片;改变圆偏光的方位角并偏转光路对样品进行二维扫描的二维扫描振镜系统;
所述探测光路的光轴上,依次设有:收集荧光信号的物镜;将荧光聚焦到多模光纤阵列上的聚焦透镜和采集荧光信号的探测器阵列;
还设有空间光调制器和二维扫描振镜系统的控制器以及用于处理荧光信号的计算机。
7.如权利要求6所述的并行探测荧光发射差分显微成像的装置,其特征在于:所述的空间光调制器的入射光和出射光的夹角应尽可能小。
8.如权利要求6所述的并行探测荧光发射差分显微成像的装置,其特征在于:所述的空间光调制器可切换0相位图案和涡旋相位图;
在为0相位图案时,其调制函数为f1(r,θ)=0,其中r为光束内某一点到光轴的距离,θ为该点垂直光轴的剖平面上位置极坐标矢量与极轴的夹角;
在为涡旋相位图时,其调制函数为f1(r,θ)=θ,其中r为光束内某一点到光轴的距离,θ为该点垂直光轴的剖平面上位置极坐标矢量与极轴的夹角。
9.如权利要求6所述的并行探测荧光发射差分显微成像的装置,其特征在于:所述的多模光纤阵列中的每根多模光纤与探测器阵列中的一个探测器相连。
10.如权利要求6所述的并行探测荧光发射差分显微成像的装置,其特征在于:所述的多模光纤阵列包括呈中心多模光纤,以及环列在所述中心多模光纤外的至少两层排列呈环形的多模光纤。
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