[发明专利]一种金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法

权利要求书

1.一种金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于具体步骤如下：

1）对金刚石-铝复合材料进行前处理，包括研磨和超声清洗；

2）采用超高真空磁控溅射设备，将铬靶和铜靶安装于磁控靶上，将清洗后的金刚石-铝复合材料放置于加热台面上，调整复合材料基片与靶材的间距；

3）盖上真空腔盖，抽取真空，再通入氩气；选取直流磁控溅射模式，对样品先进行磁控溅射镀铬，再进行磁控溅射镀铜；

4）磁控溅射镀铜后，使腔体冷却一段时间，停止通入氩气，打开放气阀，待台面温度冷却至室温时取出样品；

5）退火处理：将镀好铜的复合材料放入管式炉中进行退火处理，随炉冷却后取出。

2.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中的金刚石-铝复合材料为片状，表面平整。

3.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中的研磨，采用2000目砂纸，完全去除复合材料表面的污染物。

4.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤1）中的超声清洗，采用无水乙醇作为清洗液，超声清洗时间为2min。

5.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤2）中的铬靶和铜靶，纯度为99.99%。

6.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤3）中的抽取真空，真空度小于5×10^-4Pa。

7.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤3）中的氩气，纯度为99.99%，流量为30sccm，工作气压为0.5Pa。

8.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤3）中的磁控溅射镀铬，施加的偏压为-50V，功率为50~100W；先进行预溅射，溅射时间为5min；再进行溅射镀铬，时间为3~15min，铬层厚度为200~500nm。

9.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤3）中的磁控溅射镀铜，施加的偏压为-50V，功率为50~100W；先进行预溅射，溅射时间为5min；再进行溅射镀铜，时间为20~40min，铜层厚度为1~2μm。

10.根据权利要求1所述金刚石-铝复合材料的磁控溅射镀膜方法，其特征在于：所述步骤5）中的退火处理，其升温速率为5℃/min，退火温度为160~230℃，保温时间为1~2h。