[发明专利]主族金属配合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种含有式Ⅰ或式Ⅱ所示结构的主族金属配合物，或其药学上可接受的盐，

所述主族金属配合物，包括其正离子，由希夫碱类平面四齿配体和p区主族金属离子组成；

其中，M表示p区主族金属；

X代表二胺残基，选自-CH＝CH-、-C(CN)＝C(CN)-、-CH＝C(CN)-、-CH＝C(Cl)-、-CH＝CH-CH＝CH-、-CH＝C(CN)-CH＝CH-或-CH＝C(NH₃)-，或者作为取代或未取代的苯、吡啶、吡咯、呋喃、苯并吡咯或苯并呋喃的邻二取代基团；

Y为氢、C_1-12烷基、卤素、卤素取代烷基、氰基、或C_1-12烷氧基；

Z为氢、C_1-12烷基、卤素；

R₁、R₂、R₃和R₄为对配体骨架中苯环上的取代基，各自独立地选自氢、卤素、硝基、羟基、巯基、羧基、氨基、氰基、C_1-12烷基、C_2-12烯烷基、C_2-12炔烷基、C_1-8烷氧基、C_2-8烯氧基、C_2-8炔氧基、C_1-8烷硫基、C_3-8杂环基、芳基、C_1-12烷基取代氨基或卤素取代C_1-12烷基；或者，R₁、R₂、R₃和R₄中相邻的两个取代基可以成环；

所述主族金属配合物还带有配体，如式Ⅲ和式Ⅳ所示：

所述L表示一个或多个轴向单齿配体，包括阴离子配体、中性配体；所述L也可以是非配位阴离子。

2.根据权利要求1所述的主族金属配合物，其特征在于，

所述M为铝、镓、铟或锗中的一种；

所述Y为氢、卤素、氰基、C_1-4烷基或C_1-4烷氧基；

R₁、R₂、R₃和R₄各自独立地选自氢、卤素、硝基、羟基、羧基、氨基、氰基、C_1-12烷基、C_1-8烷氧基、芳基、N,N-二(C_1-6烷基)氨基、N-(C_1-6烷基)-N-(C_1-6烷基)氨基、N-(C_1-6烷基)-N-C_1-6炔烷基)氨基、N,N-二芳基氨基、N-(C_1-6烷基)-N-芳基氨基、N-(C_1-6烷基)-N-杂环基氨基、-CF₃-、-ClCH₂-、-ClCH₂-CH₂-、(CH₃)₂C(CH₂Cl)-、CH₂-CH₂Cl-CH(CH₃)₂-或卤素取代的C_3-6环状烷基；

所述阴离子配体包括卤素离子、乙酸根离子；所述中性配体为氧配位或氮配位的配体。

3.根据权利要求1或2所述的主族金属配合物，其特征在于，所述中性配体为溶剂分子。

4.根据权利要求1所述的主族金属配合物，其特征在于，

所述主族金属配合物包括：

5.一种权利要求1至4之一所述主族金属配合物的制备方法，其特征在于，

将式V所示水杨醛或取代水杨醛、式VI所示二胺前体以及主族金属盐MD置于有机溶剂L中，于50～150℃下进行反应12～24h，即得：