[发明专利]一种监控蚀刻的工艺方法及系统

权利要求书

1.一种监控蚀刻的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤：

将待检视晶圆通过传送模组传送至定位模组；

通过定位模组对待检视晶圆进行notch角定位后，再将待检视晶圆经过传送模组传送至OM检视模组载台上；

通过第一OM检视模组扫描待检视晶圆的X轴及Y轴，生成晶圆MAP图，通过通信模组输送至PC端数据处理中心；

PC端数据处理中心将收到的晶圆MAP图的坐标与OM检视模组的载台上的待检视晶圆同步，定位模组根据给定坐标将待检视晶圆定位至与标准图片上PCM区监测Model相对应的位置；

通过第二OM检视模组对待检视晶圆进行拍照晶圆图片并保存晶圆图片，并将晶圆图片通过通信模组传输至PC端数据处理中心；

PC端数据处理中心将接收到的晶圆图片与标准图片进行比对，输出比对结果。

2.根据权利要求1所述监控蚀刻的工艺方法，其特征在于，所述标准图片上的PCM区监测Model的形状不同、PCM区监测Model间具有不同间距及PCM区监测Model具有上高台或下高台。

3.根据权利要求1所述监控蚀刻的工艺方法，其特征在于，所述“PC端数据处理中心将接收到的晶圆图片与标准图片进行比对，输出比对结果”具体包括：

PC端数据处理中心将接收到的晶圆图片与标准图片进行形状比对；

当比对晶圆图片与标准图片形状无异时，则输出与比对无异对应的结果；

当比对晶圆图片与标准图片存在差异时，则量测晶圆图片上两两蚀刻平台以及复合蚀刻平台边到边的间隔距离，则计算间隔距离与标准间隔的差值，输出计算得到的差值。

4.根据权利要求1所述监控蚀刻的工艺方法，其特征在于，所述待检视晶圆为砷化镓晶圆。

5.一种监控蚀刻的工艺系统，其特征在于，包括传送模组、定位模组、OM检视模组载台、第一OM检视模组、第二OM检视模组、通信模组及PC端数据处理中心；

所述传送模组用于将待检视晶圆传送至定位模组，并在定位模组对待检视晶圆进行notch角定位后，将待检视晶圆传送至OM检视模组载台；

所述定位模组用于对待检视晶圆进行notch角定位，及根据给定的定位坐标将待检视晶圆定位至与标准图片上PCM区监测Model相对应的位置；

所述第一OM检视模组用于扫描待检视晶圆的X轴及Y轴，生成晶圆MAP图；

所述第二OM检视模组对待检视晶圆进行拍照得到晶圆图片并保存晶圆图片；

所述通信模组用于将晶圆MAP图及晶圆图片发送至PC端数据处理中心；

所述PC端数据处理中心将收到的晶圆MAP图的坐标与OM检视模组的载台上的待检视晶圆同步，及将接收到的晶圆图片与标准图片进行比对，输出比对结果。

6.根据权利要求5所述监控蚀刻的工艺系统，其特征在于，所述PCM区上监测Model的形状不同、PCM区监测Model间具有不同间距及PCM区监测Model具有上高台或下高台。

7.根据权利要求5所述监控蚀刻的工艺系统，其特征在于，所述PC端数据处理中心具体用于将接收到的晶圆图片与标准图片进行形状比对；

当比对晶圆图片与标准图片形状无异时，则输出与比对无异对应的结果；

当比对晶圆图片与标准图片存在差异时，则量测晶圆图片上两两蚀刻平台以及复合蚀刻平台边到边的间隔距离，则计算间隔距离与标准间隔的差值，输出计算得到的差值。

8.根据权利要求5所述监控蚀刻的工艺系统，其特征在于，所述待检视晶圆为砷化镓晶圆。