[发明专利]虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法

权利要求书

1.一种虚拟掩膜板，其特征在于，所述虚拟掩膜板的虚拟图形由多个在第一方向上周期性排布的子图形组成，相邻所述子图形在垂直于第一方向的第二方向上错开既定距离排列，所述第一方向为所述虚拟图形的延伸方向；

所述虚拟图形包括至少两个子图形重复单元，每一所述子图形重复单元包括依次排布的第一部分和第二部分，所述第一部分和第二部分均包括n个子图形，所述第一部分中，第k+1个子图形相比第k个子图形靠近所述第二部分；所述第二部分中，第k+1个子图形相比第k个子图形靠近在第一方向上相邻的子图形重复单元的第一部分，k为小于n的正整数。

2.根据权利要求1所述的虚拟掩膜板，其特征在于，n为4。

3.根据权利要求1所述的虚拟掩膜板，其特征在于，每一所述子图形重复单元依次包括第一子图形、第二子图形、第三子图形和第四子图形，所述第一子图形与所述第二子图形在第二方向上错开既定距离排列，所述第二子图形与所述第三子图形在第二方向上错开既定距离排列，所述第三子图形与所述第四子图形在第二方向上错开既定距离排列，所述第一子图形在第一方向上的第一轴线与所述第三子图形在第一方向上的第三轴线重合，所述第二子图形在第一方向上的第二轴线与所述第四子图形在第一方向上的第四轴线分别位于所述第一轴线的两侧。

4.根据权利要求1所述的虚拟掩膜板，其特征在于，每一所述子图形重复单元依次包括第一子图形和第二子图形，所述第一子图形与所述第二子图形在第二方向上错开既定距离排列。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的虚拟掩膜板，其特征在于，所述子图形呈矩形。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的虚拟掩膜板，其特征在于，每一子图形重复单元中，子图形之间错开的最大距离不超过20nm。

7.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：

利用如权利要求1-6中任一项所述的虚拟掩膜板对掩膜板本体进行激光扫描以完成掩膜板描绘。