[发明专利]量子点层的图案化方法、量子点器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910232123.0 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN109904335B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 何伟;李翔;吴慧利;李士佩;贺芳;顾仁权;徐胜;尹东升;赵雪飞;张立震;黎午升;姚琪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王晓燕
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 图案 方法 器件 及其 制备
【说明书】:

一种量子点层的图案化方法、量子点层图案、量子点器件及其制备方法和显示装置。该量子点层的图案化方法包括:形成量子点层,所述量子点层包括量子点和光引发剂;采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分,使所述预设部分中的所述量子点猝灭,以形成图案化的量子点层。采用该量子点层的图案化方法可以形成精细的量子点层的图案,从而,可以进一步形成高像素密度的彩色量子点电致发光器件。

技术领域

本公开的实施例涉及一种量子点层的图案化方法、量子点层图案、量子点器件及其制备方法和显示装置。

背景技术

量子点是一种准零维的纳米材料,量子点三个维度的尺寸都在1~10nm之间,其内部电子在各方向上的运动都受到局限,所以量子限域效应(quantum confinement effect)特别显著。对于不同尺寸的量子点,电子和空穴被量子限域的程度不一样,因此,在量子点受到外来能量激发后,不同尺寸的量子点将发出不同波长的光,也就是不同尺寸的量子点发射不同颜色的光。而且,采用量子点发光材料的显示器件具有很高的色域,因此,量子点显示器件的显示品质也很高。

随着量子点制备技术的发展,量子点的稳定性以及发光效率不断提升,量子点电致发光二极管(Quantum Light Emitting Diode,QLED)的研究不断深入,QLED在显示领域的应用越来越广泛。

发明内容

本公开至少一实施例提供一种量子点层的图案化方法,该图案化方法包括:形成量子点层,所述量子点层包括量子点和光引发剂;采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分,使所述预设部分中的所述量子点猝灭,以形成图案化的量子点层。

例如,本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法,还包括:在采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分之后,去除所述量子点层的除所述预设部分之外的部分中的所述光引发剂。

例如,本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法,还包括:在采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分之前,对所述量子点层进行前烘处理;并且在采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分之后,对所述量子点层进行后烘处理。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,通过所述后烘处理去除所述量子点层的除所述预设部分之外的部分中的所述光引发剂。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,所述光引发剂的沸点高于所述前烘处理的温度且低于所述后烘处理的温度。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,所述采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分之前包括:调整所述预设波长的光照射所述量子点层的预设部分时的焦平面和焦深,使得在所述量子点层的所述预设部分的厚度方向上所述焦平面位于所述量子点层的所述预设部分的上表面,并且所述焦深为所述量子点层的所述预设部分的厚度的2倍。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,采用预设波长的光照射所述量子点层的预设部分包括:采用掩膜板对所述量子点层进行遮挡,所述掩膜板包括透光区域和遮光区域,所述透光区域对应所述量子点层的所述预设部分,所述遮光区域对应所述量子点层的除所述预设部分之外的部分。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,所述预设波长的光为紫外光,所述光引发剂为紫外光引发剂。

例如,在本公开至少一实施例提供的量子点层的图案化方法中,所述光引发剂的分子式为R1(CO)R2,R1包括苯基、取代苯基、芳香基或者取代芳香基,R2包括烷基或者取代烷基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910232123.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top