[发明专利]一种用于口腔产品的无水分基质及其应用

说明书

一种用于口腔产品的无水分基质及其应用，属口腔产品技术领域。无水分基质的特征在于：口腔产品在该基质中加入的过氧化物源、阳离子抗菌剂之一或两者皆能稳定存在，基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08。阳离子抗菌剂可以是季铵盐或胍类抗菌剂，可以是其中的双癸基二甲基氧合脯氨酸铵(PODA)或西吡氯铵。过氧化物源可以是过氧化脲或过氧化钙、或过碳酸盐、或过硼酸盐、或过氧化氢、或聚乙烯吡咯烷酮过氧化氢的络合物。无水分基质用于制备去除口腔生物膜的产品。本发明解决的一个关键技术难点是做到了在同一系统中，使过氧化物源和阳离子抗菌剂能稳定共存并协同地抑制、破坏生物膜。

技术领域

本发明属口腔产品技术领域，具体涉及一种含能使过氧化物源、阳离子抗菌剂两者之一稳定或两者同时稳定的无水分基质及以其为基础制成口腔产品在去除口腔生物膜领域的应用。

背景技术

过氧化物源是指含有过氧基-O-O-的化合物，分子中含有过氧离子是其特征。过氧化物溶于水后，过氧基-O-O-的氧元素处于高价状态，它能自身发生氧化还原，一个氧变成-2价，一个氧变成0价，就是氧原子，又称新生态氧，氧原子不稳定，能夺去细菌的电子变成稳定的-2价氧离子，达到杀菌的作用。过氧化物被广泛应用于消毒领域，也被大量应用于医药、食品的消毒上，但所有的过氧化物的使用都是以单一成分使用，由于过氧化物极不稳定，很多物质都会加快其分解，有机物、高pH值、金属离子、短波射线等都可以使其分解速度加快，所以很难开发成制剂。

目前在国内的市售牙膏中还没有利用阳离子抗菌剂作为主要杀菌成分的，究其原因是传统的牙膏大多都是以阴离子发泡剂和含阴离子增稠剂的基质制得的产品，和阳离子抗菌剂不能相容。

口腔生物膜是口腔内链球菌属、乳杆菌属、放线菌属等多种菌属微生物细胞与胞外多聚物基质组成的复杂的三维结构，粘附、定植于牙齿表面，为一种典型的细菌性生物膜。已有研究表明，存在于牙菌斑生物膜中的细菌，利用一套完全不同的基因系统发挥其致病性，与浮游状态的同种细菌相比，其具有更强的耐药性、毒力及对抗宿主免疫防御的能力。由此可见，口腔生物膜对口腔菌群的生存乃至发挥其致病性方面都有至关重要的意义。

口腔生物膜的主要表现是牙菌斑。牙菌斑能够容纳多种多样的菌属生存于其中，其成层的结构中包含了对氧敏感性不同的需氧菌、兼性厌氧菌和绝对厌氧菌。这些细菌嵌入在含有丰富多糖、蛋白质、肽和矿物质的基质中。牙菌斑是菌丛赖以生存的基础，菌斑矿化后成为牙结石。牙菌斑主要对牙齿和牙周组织构成危害，导致口腔最常见的两种疾病：龋病和牙周病。菌斑细菌摄入唾液中的糖，分解糖产酸，这些酸会破坏牙齿，最终形成龋病。龋病发展会造成牙体破坏，牙髓病变、根周病变，最终导致牙齿功能丧失，脱落。当牙菌斑靠近牙龈时，细菌产生的毒素和其他有害物质会刺激牙龈产生炎症，即牙龈炎。如果不加控制任其发展，牙龈炎有可能会发展为牙周炎，引起牙槽骨的破坏，最终导致牙齿松动、脱落。龋病及牙周病也是许多全身疾病的诱因。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于口腔产品的无水分基质及其应用。所述口腔产品是指能清洁、保护、美化口腔组织，消除某些口腔症状(如：口臭、牙龈出血等)的制剂，剂型可以为膏剂、凝胶剂、糊剂、涂抹剂。

本发明用于口腔产品的无水分基质的特征在于：口腔产品在该基质中加入的过氧化物源、阳离子抗菌剂之一或两者皆能稳定存在，基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08。

所述的阳离子抗菌剂可以是季铵盐或胍类抗菌剂，可以是其中的双癸基二甲基氧合脯氨酸铵(PODA)或西吡氯铵。

所述的过氧化物源可以是过氧化脲或过氧化钙、或过碳酸盐、或过硼酸盐、或过氧化氢、或聚乙烯吡咯烷酮过氧化氢的络合物。

本发明用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征是用于制备去除口腔生物膜的产品。

所述去除口腔生物膜的产品可以为膏体。