[发明专利]一种用于口腔产品的无水分基质及其应用

权利要求书

1.一种用于口腔产品的无水分基质，其特征在于：口腔产品在该基质中加入的过氧化物源、阳离子抗菌剂之一或两者皆能稳定存在，基质由丙二醇、气相二氧化硅、聚乙烯吡咯烷酮组成，三者的重量配比范围为1:0.03～0.15:0.01～0.08。

2.如权利要求1所述的用于口腔产品的无水分基质，其特征在于：所述阳离子抗菌剂是季铵盐或胍类抗菌剂。

3.如权利要求1所述的用于口腔产品的无水分基质，其特征在于：所述阳离子抗菌剂是双癸基二甲基氧合脯氨酸铵或西吡氯铵。

4.如权利要求1所述的用于口腔产品的无水分基质，其特征在于：所述的过氧化物源是过氧化脲或过氧化钙、或过碳酸盐、或过硼酸盐、或过氧化氢、或聚乙烯吡咯烷酮过氧化氢的络合物。

5.如权利要求1所述的用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征在于：用于制备去除口腔生物膜的产品。

6.如权利要求5所述的用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征在于：所述去除口腔生物膜的产品为膏体。

7.如权利要求6所述的用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征在于：所述膏体中所含的发泡剂为泊洛沙姆或脂肪醇聚氧乙烯醚。

8.如权利要求6所述的用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征在于：所述膏体中含有的辅剂是与其相容的色素、或香精、或甜味剂、或抗氧化剂、或发泡剂、或螯合剂、或氟化物。

9.如权利要求6所述的用于口腔产品的无水分基质的应用，其特征在于：所述膏体为牙膏，按以下方法制备：

A.将聚乙烯吡咯烷酮均匀分散于丙二醇中，然后静置充分溶胀后得到胶体A；

B.将丙二醇加热，并将泊洛沙姆充分溶解于丙二醇中，得到溶液B；

C.分别将阳离子抗菌剂、甜味剂、色素、抗氧化剂、螯合剂、香精等成分加入溶液B中，充分搅拌，得到溶液C；

D.将所需气相二氧化硅分为三份，其中两份分两次分别加入溶液C中，充分润湿分散后，得到胶体B；

E.将胶体A和胶体B混合，充分均质，得到无水膏体A；

F.将无水膏体A与最后一份气相二氧化硅充分分散、均质，得到无水膏体B；

G.向已得到的无水膏体B中加入经细化处理的过氧化物源，充分分散，得到一个无水膏体的成品。