[发明专利]感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示元件及显示装置

说明书

本发明提供一种感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示元件及显示装置。感放射线性组合物的放射线感度优异，且可形成耐化学品性高、对金属配线的腐蚀性低的硬化膜。感放射线性组合物，其包含：聚合体成分(A)，在同一或不同的聚合体中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有烷氧基硅烷基的结构单元(II)；以及感放射线性化合物(B)。

技术领域

本发明涉及一种感放射线性组合物及其用途，尤其涉及一种感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示元件及显示装置。

背景技术

从前，感放射线性组合物一直用于形成显示元件所具有的硬化膜，所述硬化膜为层间绝缘膜、保护膜及隔离片(spacer)等经图案化的硬化膜(例如参照专利文献1)。作为形成所述硬化膜的材料，为了获得所需的图案形状，已知有含有将含烷氧基硅烷基的自由基聚合性单体聚合而得的聚合物及光酸产生剂的感光性组合物(例如参照专利文献2～专利文献3)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-159601号公报

[专利文献2]日本专利特开2013-101240号公报

[专利文献3]日本专利特开2006-209112号公报

发明内容

发明所要解决的问题

根据本发明人们的研究，理想的是进一步提升感放射线性组合物的放射线感度。另外，理想的是提升由所述组合物所形成的硬化膜的耐化学品性、或可视用途而减小对金属配线的腐蚀性。

解决问题的技术手段

本发明人们为了解决所述问题而进行了努力研究，其结果发现，通过具有以下构成的感放射线性组合物而可解决所述问题，从而完成了本发明。本发明例如涉及以下的[1]～[9]。

[1]一种感放射线性组合物，其包含：聚合体成分(A)，在同一或不同的聚合体中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有烷氧基硅烷基的结构单元(II)；以及感放射线性化合物(B)。

[2]根据所述[1]记载的感放射线性组合物，其中，所述结构单元(II)含有下述式(IIa)所表示的基，*-R²-Si(R¹)₃…(IIa)[式(IIa)中，存在多个的R¹分别独立地为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、三氟甲氧基、碳数1～20的烃基、所述烃基中的至少一个-CH₂-经选自-COO-、-OCO-、-CO-及-O-中的至少一种所取代的取代烃基1(其中将烷氧基除外)、所述烃基或所述取代烃基1中的至少一个氢原子经卤素原子所取代的取代烃基2或碳数1～5的烷氧基，其中，所述R¹的至少一个为碳数1～5的烷氧基，R²为碳数1～5的烷二基，*为键结键]。

[3]根据所述[1]或[2]记载的感放射线性组合物，其中，所述聚合体成分(A)在同一或不同的聚合体中还具有含有交联性基的结构单元(III)。

[4]根据所述[1]至[3]中任一项记载的感放射线性组合物，其中，所述感放射线性化合物(B)为感放射线性酸产生剂。

[5]一种硬化膜，其由根据所述[1]至[4]中任一项记载的感放射线性组合物形成。

[6]根据所述[5]记载的硬化膜，其为层间绝缘膜。

[7]一种硬化膜的制造方法，其包括：工序(1)，在基板上形成根据所述[1]至[4]中任一项记载的感放射线性组合物的涂膜；工序(2)，对所述涂膜的一部分照射放射线；工序(3)，对经放射线照射的所述涂膜进行显影而形成图案膜；以及工序(4)，对所述图案膜进行加热而形成硬化膜。