[发明专利]感放射线性组合物、硬化膜及其制造方法、显示元件及显示装置在审
| 申请号： | 201910206932.4 | 申请日： | 2019-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN110320746A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 松本晃幸;浅冈高英;成子朗人 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/075;G03F7/00;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 感放射线性组合物 硬化膜 显示元件 显示装置 聚合体 烷氧基硅烷基 感放射线性 马来酰亚胺 耐化学品性 金属配线 放射线 感度 制造 | ||
1.一种感放射线性组合物，其特征在于，包含：
聚合体成分(A)，在同一或不同的聚合体中具有源自马来酰亚胺的结构单元(I)及含有烷氧基硅烷基的结构单元(II)；以及
感放射线性化合物(B)。
2.根据权利要求1所述的感放射线性组合物，其特征在于：所述结构单元(II)含有下述式(IIa)所表示的基，
*-R2-Si(R1)3…(IIa)
式(IIa)中，存在多个的R1分别独立地为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、三氟甲氧基、碳数1～20的烃基、所述烃基中的至少一个-CH2-经选自-COO-、-OCO-、-CO-及-O-中的至少一种所取代的取代烃基1(其中将烷氧基除外)、所述烃基或所述取代烃基1中的至少一个氢原子经卤素原子所取代的取代烃基2或碳数1～5的烷氧基，其中，所述R1的至少一个为碳数1～5的烷氧基，R2为碳数1～5的烷二基，*为键结键，且所述取代烃基1将烷氧基除外。
3.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其特征在于：所述聚合体成分(A)在同一或不同的聚合体中还具有含有交联性基的结构单元(III)。
4.根据权利要求1或2所述的感放射线性组合物，其特征在于：所述感放射线性化合物(B)为感放射线性酸产生剂。
5.根据权利要求3所述的感放射线性组合物，其特征在于：所述感放射线性化合物(B)为感放射线性酸产生剂。
6.一种硬化膜，其由如权利要求1至5中任一项所述的感放射线性组合物形成。
7.根据权利要求6所述的硬化膜，其为层间绝缘膜。
8.一种硬化膜的制造方法，其特征在于，包括：
工序(1)，在基板上形成如权利要求1至5中任一项所述的感放射线性组合物的涂膜；
工序(2)，对所述涂膜的一部分照射放射线；
工序(3)，对经放射线照射的所述涂膜进行显影而形成图案膜；以及
工序(4)，对所述图案膜进行加热而形成硬化膜。
9.一种显示元件，其特征在于，包括：如权利要求6或7所述的硬化膜。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求9所述的显示元件。
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