[发明专利]曝光装置、曝光方法和物品制造方法

说明书

本发明涉及曝光装置、曝光方法和物品制造方法。提供一种对基板执行扫描曝光的曝光装置。该装置包括：光源；包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量的数字镜器件；被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上的投影光学系统；以及被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子的控制器，其中，控制器控制所述多个镜子，使得图案的边缘部分中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量。

技术领域

本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品制造方法。

背景技术

近年，随着电视系统的HD(高清晰度)标准化发展，薄型FPD(平板显示器)经常被用作显示设备。与此同时，对更大屏幕和更高分辨率以及更低成本的需求变得更加强烈。在FPD的制造中，使用类似于集成电路工业中使用的技术的光刻技术将原件(掩模)上的电路图案投影到涂覆有光敏抗蚀剂的玻璃基板上，从而在基板上转印和形成图案。在投影和曝光掩模的传统方法中，显示屏尺寸的增加导致掩模本身的尺寸增加。与此同时，由于材料的扩大和确保整个表面上的线宽均匀性而使制造成本增加，并且掩模的制造周期也延长，这可能严重阻碍批量生产工艺。

作为补偿这种缺陷的曝光方法，存在无掩模曝光，其中通过使用诸如DMD(数字微镜器件)的空间光调制器件直接绘制图案。由于不需要制造掩模，因此可以降低成本。

在无掩模曝光装置中，作为形成高分辨率图案的方法，已知相对于基板倾斜地设定扫描方向的方法。在这种情况下，由于同一列中的微镜组的斑点位置在副扫描方向上逐渐移位，因此重叠曝光是可能的(日本专利公开第2003-050469号)。另外，已知有这样一种技术，为了获得高分辨率，组合通过微镜二维地形成在基板表面上的斑点，以形成期望的图案(日本专利公开第2006-085070号)。

例如，在FPD基板、IC等中，在同一基板上执行多次曝光处理，使得在各次曝光处理中形成的图案重叠。此时，如果在每次曝光处理中形成的图案的轮廓或图案形成的精度差，则重叠不成功，导致制造失败。

发明内容

例如，本发明提供了一种在精度上有利于图案形成的曝光装置。

本发明在其第一方面提供了一种对基板执行扫描曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：光源；数字镜器件，包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子，并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量；投影光学系统，被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上；以及控制器，被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子，其中，控制器控制所述多个镜子，使得图案的边缘部分中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量。

本发明在其第二方面提供了一种对基板执行扫描曝光的曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包括：该曝光装置包括：光源；包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量的数字镜器件；被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上的投影光学系统；以及被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子的控制器，所述方法包括：预先测量由数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子反射且被引导到基板的光的积分曝光量；基于测量的结果来确定数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子的开/关，使得图案中的积分曝光量变得均匀；基于根据确定的结果执行的测试曝光的结果，校正确定的结果，使得图案的边缘部分中的每个斑点中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的每个斑点中的积分曝光量；以及根据经校正的结果对基板进行曝光。

本发明在其第三方面提供了一种物品制造方法，所述物品制造方法包括使用在第一方面中限定的曝光装置对基板进行曝光，以及对在曝光中曝光了的基板进行显影，其中，由显影的基板制造物品。

根据下面(参照附图)对示例性实施例的描述，本发明的另外的特征将变得清楚。

附图说明