[发明专利]目标开度推断器以及压力调整真空阀

说明书

本发明提供一种能够精度良好地算出目标开度推断值的目标开度推断器以及压力调整真空阀。目标开度推断器(110)基于压力调整真空阀(1)的阀体(12)的开度和连接压力调整真空阀(1)的真空腔室的压力的相关关系，与当前的开度及压力，来推断真空腔室的压力达到调压目标压力(Ps)时的阀体(12)的开度即目标开度推断值(θe)。

技术领域

本发明涉及一种目标开度推断器以及压力调整真空阀。

背景技术

在化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)装置等真空处理装置中，多数情况下，一边使工艺气体流入至工艺腔室，一边将腔室内压力维持在规定压力来进行工艺。通常，在不同的工艺条件下具有多个步骤，所述各步骤中的条件的各个每隔规定时间来推进切换处理。此时，为了确保工艺的均匀性，需要在步骤间的切换时序迅速地收敛为下一个规定的压力值，或在各步骤区间内极力减少压力变动。

因此，在工艺腔室与真空泵之间设置压力调整真空阀(也称为压力自动控制(automatic pressure control，APC)阀)，并利用马达对此压力调整真空阀的阀体进行驱动控制，由此将工艺腔室的压力控制为所需的压力(例如，参照专利文献1)。

在使用包括真空泵与自动压力调整阀的真空排气装置来对工艺腔室进行排气的情况下，预先将真空排气装置的排气特性数据存储于压力调整真空阀的控制器，并基于所述排气特性数据来进行利用自动压力调整阀的调压动作。例如，在调压时在用于反馈控制的情况下，基于排气特性数据来设定移动目标的目标开度来驱动阀体。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2014-207353号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而，当目标开度的精度差时，压力值变为震荡等压力调整响应的稳定性成为问题。

[解决问题的技术手段]

本发明的优选形态的目标开度推断器基于压力调整真空阀的阀体的开度和连接所述压力调整真空阀的真空腔室的压力的相关关系，与当前的所述开度及所述压力，来推断所述真空腔室的压力达到调压目标压力时的所述阀体的开度即目标开度推断值。

在更优选的形态中，所述相关关系是表示相对于开度变化的压力响应特性的相关关系。

在更优选的形态中，所述相关关系是当将所述真空腔室的压力设为P、将所述真空腔室的压力的变化设为ΔP、将所述阀体的开度的变化设为Δθ时，用式子“|(ΔP/Δθ)|/P”表示的量。

在更优选的形态中，反复进行开度增量的相加直到基于对当前的开度加上所述开度增量所得的相加后开度与所述相关关系而算出的压力成为所述调压目标压力以上为止，从而推断所述目标开度推断值，在相加前开度未满规定开度的情况下，使用第1开度增量作为所述开度增量，在相加前开度为规定开度以上的情况下，使用比所述第1开度增量大的第2开度增量作为所述开度增量。

本发明的优选形态的压力调整真空阀包括：阀体，进行开闭驱动；根据所述形态的任一个记载的目标开度推断器；以及开度控制部，基于由所述目标开度推断器推断的目标开度推断值来控制所述阀体的开度。

在更优选的形态中，所述开度控制部是利用阀体驱动从调压开始时输出从当前的开度到目标开度推断值为止的前馈开度，来对所述阀体的开度进行前馈控制。

在更优选的形态中，所述开度控制部进行所述前馈控制，还进行反馈控制，在所述反馈控制中，在所述前馈开度达到所述目标开度推断值之前输出值为零的反馈开度，若所述前馈开度达到所述目标开度推断值，则输出与所述真空腔室的压力相对于所述调压目标压力的偏差相对应的反馈开度。