[发明专利]透明导电性薄膜、触控屏及其制备方法

权利要求书

1.一种透明导电性薄膜，其特征在于，包括：

基材，具有相对的两个表面；及

依次形成于所述基材至少一个表面的过渡层、纳米导电层及金属层，所述过渡层及所述纳米导电层分别由固化胶及纳米导电材料固化形成；

其中，所述过渡层与所述纳米导电层部分重叠，以形成包含部分所述固化胶及部分所述纳米导电材料的混合层。

2.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材的厚度为5微米至100微米。

3.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述过渡层的厚度小于10微米。

4.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述纳米导电层的厚度为5纳米至1000纳米。

5.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述混合层的厚度为1纳米至5纳米。

6.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述金属层的厚度为100纳米至1000纳米。

7.根据权利要求1所述的透明导电性薄膜，其特征在于，所述基材的其中一个表面形成有所述过渡层、所述纳米导电层及所述金属层；或者

所述基材的两个表面均形成有所述过渡层、所述纳米导电层及所述金属层。

8.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括步骤：

提供一种如上述权利要求1至7任一项所述的透明导电性薄膜；

采用曝光显影蚀刻工艺对所述金属层及所述纳米导电层同时蚀刻，以形成位于引线区的金属引线图案及透明引线图案，以及位于触控区金属非引线图案及电极图案；

采用曝光显影蚀刻工艺蚀刻所述金属非引线图案，以露出所述电极图案，所述金属引线图案与所述透明引线图案共同构成电极引线。

9.根据权利要求8所述的触控屏的制备方法，其特征在于，所述透明导电性薄膜的制备方法包括：

在基膜的表面形成纳米导电层；

在所述纳米导电层背向所述基膜的一侧涂覆固化胶，并使所述固化胶部分渗入并固化到所述纳米导电层中，形成过渡层及混合层；

将所述过渡层贴附于基材的表面，并去除所述基膜；

在所述纳米导电层背向所述混合层的表面形成金属层。

10.一种触控屏，其特征在于，所述触控屏由上述权利要求8或9所述的触控屏的制备方法所制成，所述触控屏包括触控区及引线区，所述触控区包括由所述电极图案构成的电极；所述引线区包括由金属引线图案与所述透明引线图案共同构成的引线。