[发明专利]沿移动表面移动物体的设备及方法、旋转构件的平衡装置

说明书

提供一种沿着移动表面(30)移动物体(20)的移动设备(1)，该设备包括：撞击质量体(2)和将该撞击质量体连接到物体(20)的悬挂装置(3)；移动装置(4)，适于沿着闭合路径(4a)反复移动撞击质量体；头部(5)，约束到物体(20)，适于干涉闭合路径，撞击质量体(2)沿前进线路及方向(2a)干涉头部(5)；连接装置(23)，用于将物体(20)连接到移动表面(30)，适于在物体与移动表面之间产生摩擦力，其在当撞击质量体(2)干涉头部(5)时引发能够使物体相对于移动表面移动的、超过摩擦力的反作用力，当撞击质量体(2)并未沿着闭合路径(4a)干涉头部(5)时不会引发能够使物体相对于移动表面移动的、超过摩擦力的反作用力。

技术领域

本发明涉及一种用于移动物体的设备，特别是涉及一种用于沿着移动表面移动物体的移动设备。

特别地，根据本发明的移动设备适于在平衡系统中移动质量体。

背景技术

目前已知的是，一般使用不同的装置、电机和设备来移动物体和系统。

例如，带有轮的电机或其他滑动系统是已知的。

磁性设备、内燃机和许多其他系统是已知的。

例如，在平衡系统或装置的特定领域中，存在各种类型的移动设备。

平衡装置是适于使围绕旋转轴线旋转的元件平衡的系统，例如工具(tool，机床)的旋转构件或类似物。

平衡装置通常包括两个可移动的质量体，所述质量体与待平衡的旋转元件一起围绕后者的旋转轴线旋转。

平衡装置还包括用于测量围绕旋转轴线旋转的构件的不平衡的设备，该设备适于恒定地评估旋转构件在旋转时是否平衡，即其质心是否沿旋转轴线分布。

在专利申请SU-A-1632143和DE-A-3943759中描述了平衡装置。

尽管大多数情况下可移动质量体与旋转构件是一体的，但是它们也可相对于旋转构件移动，绕所述旋转轴线旋转。当两个质量体围绕旋转轴线以180°相对时，两个质量体不会对旋转构件产生不平衡，然而，当两个质量体处于不同的往复位置时，两个质量体会对旋转体产生不平衡。所述不平衡被用于重建旋转构件的平衡。因此，当用于测量不平衡的设备确定存在不平衡时，可移动质量体被激活。

通常，可移动质量体相对于旋转构件形成的参考系统移动，所述旋转构件通过沿旋转构件的旋转轴线设置的电机旋转并通过齿轮和类似的连接件连接到质量体。

在同一申请人的专利申请EP 2717032A中描述了类似的平衡系统。

所描述的平衡装置具有一些明显缺陷。

实际上，在某些情况下，旋转构件的中心轴线的一部分被其他物体和设备占据，因此不能将电机设置在此处。

但是，电机不能够被设置在与旋转轴线不同的位置。实际上，必须平衡的设备经常达到极高的旋转速度，其数量级为数万或甚至数十万转/分钟。

因此，未沿轴线设置的电机会受到离心加速度作用，该离心加速度提升极快并且能导致该电机损坏。

专利申请US 2006/0005623A试图通过使用磁性移动设备来克服所述缺陷。这种系统包括由永磁体形成的可移动质量体和用于可移动质量体的移动系统，其始终相对于由旋转构件旋转形成的参考系统，由旋转构件外部的固定磁体形成并适于使质量体加速或减速从而使所述质量体相对于旋转构件移动。

这种平衡装置呈环状并且使旋转构件的中心部分保持自由。

然而，因为只能在预定位置设置可移动质量体，所描述的平衡装置相对不够精确。

而且，磁性设备经常从加工工艺中吸取金属碎屑，这往往会阻碍系统的运动，使得维护更加困难。