[发明专利]一种高强度高韧性的陶瓷大板及其制备方法在审
| 申请号: | 201910147079.3 | 申请日: | 2019-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN109665811A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
| 发明(设计)人: | 范新晖;林伟;陈贤伟;林金宏;邓荣 | 申请(专利权)人: | 佛山石湾鹰牌陶瓷有限公司 |
| 主分类号: | C04B33/13 | 分类号: | C04B33/13;C04B33/135;C04B33/132;C04B33/24;C04B41/89 |
| 代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
| 地址: | 528000 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 制备 高韧性 大板 陶瓷 抛光 切削 磨块 砖坯 陶瓷生产线 断裂模数 高温烧成 开裂性能 坯体制备 烧成工艺 数码喷印 低钙镁 低收缩 交替的 烧失量 高钾 高铝 急冷 坯体 釉线 配方 组装 优化 | ||
本发明涉及一种高强度高韧性的陶瓷大板及其制备方法。所述制备方法包括坯体制备、陶瓷生产线设施及釉线设施组装、数码喷印及高温烧成等步骤;采用高铝、高钾、低钙镁的优化配方,烧失量低;改善的烧成工艺,坯体低收缩量、温度范围宽、抗急冷开裂性能高;通过刚性磨块和柔性磨块交替的方式进行抛光,减少抛光切削量,并能有效、精确控制砖坯的切削量,通过该制备方法制备的陶瓷大板具有高强度和高韧性的特点,断裂模数达到52Mpa。
技术领域
本发明涉及陶瓷大板领域,特别涉及一种高强度高韧性的陶瓷大板及其制备方法。
背景技术
“无大板,不大牌”,可见当前陶瓷大板(砖)的流行趋势。近年来,不管是在意大利博洛尼亚CERSAIE展会还是在国内外各陶瓷行业相关技术研讨会,甚至是各大型陶瓷装备及生产企业的宣传上,陶瓷大板(砖)及其成型装备无一例外成为了最引人注目的产品。根据GB/T23266-2009的标准规定,陶瓷大板(砖)是指厚度不大于6mm、表面积不小于1.62m2的瓷砖产品。相比较石材而言,陶瓷大板(砖)具有诸多优点,如质地均匀、强度高、各向同性、吸水率低、抗污易清洁等。在装饰上,随着陶瓷生产技术及喷墨技术的成熟,陶瓷大板(砖)的装饰效果有了革新性的进步,变得丰富多彩、精致细腻,图案花色稳定,适合于大面积、整体效果的设计表达,深受消费者青睐。目前,陶瓷大板(砖)制造装备可压制厚度3~30mm不等,特别在厚度3.5~6mm上体现了更大的优势:能源消耗低、资源利用率高,与普通厚度的陶瓷大板(厚度为10~12mm)相比可节省原料60%、降低能耗50%、碳排放降低84%以上。而根据应用场所的不同,薄板与厚板各有千秋,一切以市场和运用场合的实际需求决定。在国际陶瓷砖市场,陶瓷大板(砖)已经成为高端市场的热点。随着大板生产、运输、铺贴、安装等技术难点的不断突破,陶瓷大板(砖)的应用领域越来越广泛,不再仅仅局限于市政工程,其应用范围也扩大到幕墙、地铁、屏风、柜台、艺术装饰等领域,成为广泛应用的一种新型装饰建材。
现有技术中,CN107827435A发明了一种陶瓷大板,包括以下按重量比计的原料:粉煤灰35-60%,废玻璃5-10%,高岭土5-12%,发泡剂0.1-0.5%,钾长石10-20%,钠长石10-2%,陶瓷砖抛光废渣5-30%,电解质0.1-0.2%;此外,CN108424111A发明了一种陶瓷大板,其坯体按照化学组分按重量百分比计包括17~24%的Al2O3、60~70%的SiO2、3~7%的K2O+Na2O、1~3%的MgO和7~17%的烧失量;然而,这些配方的陶瓷大板的强度较弱、韧性也较差,进而,在煅烧过程中容易产生收缩、急冷开裂以及变形弯曲等问题,这也是陶瓷大板的制备难点,其也限制了国内陶瓷大板的批量生产,影响市场的拓宽。
针对此现状,本发明解决的技术问题是如何通过优化配方更好地控制烧成收缩、提高强度和韧性。本发明主要通过化学成分配比来降低烧成温度、提高烧成稳定性,并且提高强度和韧性。
上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。
发明内容
本发明涉及一种高强度高韧性的陶瓷大板的制备方法,包括如下工艺步骤:
步骤(1)坯体制备:将生坯各原料组分投入球磨机中混匀得浆料,浆料过筛、陈腐1-2天、12000高斯除铁器中除铁后经喷雾干燥得粉料,再将粉料压制成型,经干燥窑干燥,得坯体层;
步骤(2)在陶瓷生产线上串联安装好7台喷墨打印机,其中第一台1个或2个有效通道,第二台2个有效通道,第三台2个有效通道,第四3个有效通道,第五台1个有效通道,第六台1个有效通道,第七台2个有效通道,每台喷墨机之间的距离为6m;
步骤(3)陶瓷生产线设施及釉线设施组装完成;
步骤(4)数码喷印,在干燥后的坯体上形成底釉层、图案层、粘合釉层以及干粒层;
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