[发明专利]存储装置在审
| 申请号: | 201910142954.9 | 申请日: | 2019-02-26 |
| 公开(公告)号: | CN110739392A | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | 村上俊也;梶田明广;斋藤真澄 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
| 主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22 |
| 代理公司: | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 杨林勳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 导电部 电阻变化部 方向交叉 存储装置 绝缘部 晶格 轴向 动作稳定 距离比 | ||
1.一种存储装置,其特征在于具备:
第1导电部;
第2导电部,从所述第1导电部朝所述第2导电部的方向是沿着第1方向;
第1电阻变化部,设置在所述第1导电部与所述第2导电部之间;以及
第1区域,从所述第1电阻变化部朝所述第1区域的第2方向与所述第1方向交叉;
所述第1区域包含:
第1层部分;以及
第2层部分,在所述第2方向上设置在所述第1层部分与所述第1电阻变化部之间;
所述第1层部分与所述第2层部分之间的沿着所述第2方向的第1距离比第1晶格长度及第2晶格长度的至少任一长度长,所述第1晶格长度是所述第1层部分的沿着与所述第2方向交叉的第1轴向的晶格长度,所述第2晶格长度是所述第2层部分的沿着与所述第2方向交叉的第2轴向的晶格长度。
2.根据权利要求1所述的存储装置,其特征在于还具备:包含第1绝缘区域的绝缘部,
所述第1绝缘区域在所述第2方向上设置在所述第1电阻变化部与所述第1区域之间。
3.根据权利要求1所述的存储装置,其特征在于还具备:第2区域,在所述第1方向上设置在所述第1电阻变化部与所述第1导电部之间,
所述第2区域包含:
第3层部分;以及
第4层部分,在所述第1方向上设置在所述第3层部分与所述第1电阻变化部之间;
所述第3层部分与所述第4层部分之间的沿着所述第1方向的第2距离比第3晶格长度及第4晶格长度的至少任一长度长,所述第3晶格长度是所述第3层部分的沿着与所述第1方向交叉的第3轴向的晶格长度,所述第4晶格长度是所述第4层部分的沿着与所述第1方向交叉的第4轴向的晶格长度。
4.根据权利要求3所述的存储装置,其特征在于还具备:第3区域,在所述第1方向上设置在所述第1电阻变化部与所述第2导电部之间,
所述第3区域包含:
第5层部分;以及
第6层部分,在所述第1方向上设置在所述第5层部分与所述第1电阻变化部之间;
所述第5层部分与所述第6层部分之间的沿着所述第1方向的第3距离比第5晶格长度及第6晶格长度的至少任一长度长,所述第5晶格长度是所述第5层部分的沿着与所述第1方向交叉的第5轴向的晶格长度,所述第6晶格长度是所述第6层部分的沿着与所述第1方向交叉的第6轴向的晶格长度。
5.根据权利要求1所述的存储装置,其特征在于还具备第1对向区域,
在所述第2方向上,在所述第1对向区域与所述第1区域之间设置所述第1电阻变化部,
所述第1对向区域包含:
第1对向层部分;以及
第2对向层部分,在所述第2方向上设置在所述第1对向层部分与所述第1电阻变化部之间;
所述第1对向层部分与所述第2对向层部分之间的沿着所述第2方向的距离比所述第1对向层部分的沿着与所述第2方向交叉的轴向的晶格长度、及所述第2对向层部分的沿着与所述第2方向交叉的轴向的晶格长度的至少任一长度长。
6.根据权利要求5所述的存储装置,其特征在于还具备绝缘部,
所述绝缘部包含:
第1绝缘区域,在所述第2方向上设置在所述第1电阻变化部与所述第1区域之间;以及
第1对向绝缘区域,在所述第2方向上设置在所述第1电阻变化部与所述第1对向区域之间。
7.根据权利要求1所述的存储装置,其特征在于还具备:
第3导电部;
第4导电部,从所述第3导电部朝所述第4导电部的方向是沿着所述第1方向;
以及
第2电阻变化部,设置在所述第3导电部与所述第4导电部之间;
在所述第2方向上,在所述第1电阻变化部与所述第2电阻变化部之间设置所述第1区域。
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