[发明专利]TFT阵列基板的缺陷检测方法

说明书

本发明提供一种TFT阵列基板的缺陷检测方法。本发明的TFT阵列基板的缺陷检测方法在获取TFT阵列基板的原始图像后对原始图像进行去噪处理产生去噪图像，对去噪图像进行规则结构纹理背景去除处理产生待判定图像，对所述待判定图像进行缺陷提取获取TFT阵列基板的缺陷的描述参数，利用TFT阵列基板的缺陷的描述参数及预设的参考描述参数判断TFT阵列基板的缺陷的类型，能够简单准确地对TFT阵列基板上的缺陷类型进行检测。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种TFT阵列基板的缺陷检测方法。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示装置(Liquid Crystal Display，LCD)等平板显示装置已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示装置。液晶显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。

现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)，其工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。

通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter，CF)基板、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列(Array)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的液晶(Liquid Crystal，LC)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT阵列基板与彩膜基板贴合)及后段模组组装制程(驱动芯片与印刷电路板压合)。其中，前段阵列制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段成盒制程主要是在TFT阵列基板与彩膜基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动芯片压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。

现有技术中在制作TFT阵列基板时，TFT阵列基板上往往会形成缺陷，包括点状缺陷、纤维状缺陷、不规则异物缺陷、彩晕状缺陷等等，若将有缺陷的TFT阵列基板与彩膜基板对组成盒，最终制得的液晶显示面板将存在显示不良，因此现有技术中会在对组成盒前对TFT阵列基板进行缺陷检测以识别TFT阵列基板上的缺陷位置及类型。现有的TFT阵列基板的缺陷检测方法中，由于TFT阵列基板存在依次排列的重复结构，为了便于提取缺陷，一般会对TFT阵列基板表面图像的纹理背景进行消除，但由于存在截断效应，会影响消除TFT阵列基板表面纹理背景的效果，从而影响缺陷的提取效果，使得现有的TFT阵列基板的缺陷检测方法进能够对比较大的缺陷实现检测并不能对TFT阵列基板的缺陷类型进行有效的识别。

发明内容

本发明的目的在于提供一种TFT阵列基板的缺陷检测方法，能够简单准确地对TFT阵列基板上的缺陷类型进行检测。

为实现上述目的，本发明提供一种TFT阵列基板的缺陷检测方法，包括如下步骤：

步骤S1、提供TFT阵列基板，获取所述TFT阵列基板的原始图像；

步骤S2、对所述原始图像进行去噪处理产生去噪图像；

步骤S3、对所述去噪图像进行规则结构纹理背景去除处理产生待判定图像；

步骤S4、对所述待判定图像进行缺陷提取获取TFT阵列基板的缺陷的描述参数；

步骤S5、利用TFT阵列基板的缺陷的描述参数及预设的参考描述参数判断TFT阵列基板的缺陷的类型。

所述步骤S1中，利用自动光学检测机获取TFT阵列基板的原始图像。

所述TFT阵列基板的原始图像包括呈阵列式排布的多个原始像素。