[发明专利]覆板及其使用方法

说明书

公开了覆板及其使用方法。覆板的主体可用于在具有不均匀形貌的基板上形成自适应平坦化层。覆板的主体可具有非常适合于实现共形和平坦化行为二者的弯曲特性。主体可以具有表面和在t₁到t₂范围内的厚度，t₁＝(Pd⁴/2Eh)^1/3，t₂＝(5Pd⁴/2Eh)^1/3；P是对应于主体和平坦化前体材料之间的毛细力的压力；d是弯曲距离；E是主体的杨氏模量；并且h是基板的两个相邻区域之间的台阶高度差。在一个实施例中，厚度可以被选择和用于确定共形行为的最大面外位移w_max足够并且平坦化行为的w_max低于预定阈值。

技术领域

本公开涉及在基板上的平坦化(planarization)层中使用的覆板(superstrate)。

背景技术

在US 8394282中公开了自适应压印平坦化处理。自适应压印平坦化提供具有期望的形状特征的表面。通常，第一表面的形貌被映射以提供密度图。密度图被评估以提供用于在第一表面上分配可聚合材料的液滴图案。可聚合材料被固化和蚀刻以提供模板的第二表面，其中第二表面具有期望的形状特征。另外，自适应压印平坦化补偿了压印处理的寄生效应。

可以在具有平面性扰动的表面上使用反色调图案化。US 7241395公开了一种图案化基板的方法，该方法包括在基板上形成具有原稿图案的第一膜，该原稿图案包括多个凸部，所述多个凸部的子集从最低表面开始延伸，终止于顶点表面，从而在最低表面和顶点表面之间限定高度。第二膜被设置在第一膜上并限定与所述多个凸部的顶点表面间隔开的表面。所述多个凸部中的任何一个的顶点表面与所述表面之间的距离的变化在预定范围内。记录的图案被转印到对应于原稿图案的基板上，其中预定范围被选择为使记录图案中的图案失真最小化。

发明内容

在一个方面，覆板可以包括：主体，具有表面和在t₁到t₂范围内的厚度，其中：t₁＝(Pd⁴/2Eh)^1/3，t₂＝(5Pd⁴/2Eh)^1/3，P是对应于来自主体和可成形前体材料之间的毛细力的贡献以及施加到覆板上的气体压力的总和的压力，d是弯曲距离，E是主体的杨氏模量，并且h是基板的两个相邻区域之间的台阶高度差。

在一个实施例中，所述覆板具有共形行为区域，所述共形行为区域具有至少5nm的面外位移。

在特定实施例中，所述共形行为区域具有至少0.20mm的长度。

在另一实施例中，所述覆板具有平坦化行为区域，所述平坦化行为区域具有至多1nm的面外位移。

在特定实施例中，所述平坦化行为区域具有至多0.1mm的弯曲距离。

在又一实施例中，所述主体包括玻璃。

在还有的另一实施例中，所述主体包括聚合物。

在另一实施例中，所述主体对于用于聚合用于形成平坦化层的平坦化前体材料的辐射具有大于70％的透射率。

在另一方面中，制造覆板的方法可以包括：去除材料的一部分以限定基板的主体，其中主体的厚度是主体的杨氏模量、台阶之间的距离和基板的两个相邻区域之间的台阶高度差的函数。

在一个实施例中，主体包括玻璃，并且具有在0.20mm至0.95mm的范围内的厚度，或者主体包括聚乙烯，并且具有在0.25mm至1.1mm的范围内的厚度。