[发明专利]一种刀装置有效

专利信息
申请号: 201910103209.3 申请日: 2019-02-01
公开(公告)号: CN109671656B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 许明 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 装置
【说明书】:

发明提供一种刀装置,该刀装置包括:本体部,其包括:第一刀唇和第二刀唇,第二刀唇与所述第一刀唇相对设置;所述第一刀唇和所述第二刀唇之间间隔设置;清洁组件与所述本体部连接,所述清洁组件用于在所述本体部空闲时,对所述本体部进行清洁。本发明的刀装置,能够提高生产效率。

【技术领域】

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种刀装置。

【背景技术】

湿式蚀刻(wet etch)工艺完成后,为减少药液带出量和提高蚀刻均一性,需要在第一道水洗前设置刀装置,刀装置比如为气刀或液刀,然而由于现有刀装置的刀口的间隙很小,容易被管道中的尘粒(Partical)堵塞,使得气刀和液刀出现分叉。如果出现分叉状况,产品会出现蚀刻不均和线性Mura的问题。

现有的解决方法是通过人工进行检测,发现分叉时停机清理,必要时需要将液刀拆解清洗,费时费力,降低了生产效率。

因此,有必要提供一种刀装置,以解决现有技术所存在的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种刀装置,能够提高生产效率。

为解决上述技术问题,本发明提供一种刀装置,其包括:

本体部,其包括:

第一刀唇;

第二刀唇,与所述第一刀唇相对设置;所述第一刀唇和所述第二刀唇之间间隔设置;

清洁组件,与所述本体部连接,所述清洁组件用于在所述本体部空闲时,对所述本体部进行清洁。

本发明的刀装置,通过在现有的刀装置中增加清洁组件,通过该清洁组件对刀装置进行清洁,以防止尘粒堵塞刀唇之间的间隙,从而提高了生产效率。

【附图说明】

图1为现有刀装置的俯视图;

图2为现有刀装置的仰视图;

图3为现有刀装置的左视图;

图4为本发明刀装置的结构示意图;

图5为本发明刀装置的俯视图;

图6为本发明刀装置的优选结构示意图;

图7为本发明实施例一的刀装置的左视图;

图8为图7中刀装置对应的仰视图。

图9为本发明实施例二的刀装置的左视图;

图10为图9中刀装置对应的仰视图。

【具体实施方式】

以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。

如图1至3所示,现有的刀装置包括本体部10,本体部10包括第一刀唇11和第二刀唇12,所述第一刀唇11和所述第二刀唇12之间具有间隙101;在所述间隙101的上方设置有第一管道13,所述第一管道13通入有气体或者液体,液体比如为水。

由于第一刀唇11和第二刀唇12之间的间隙较小,因此容易被尘粒30堵塞,使得气刀和液刀容易出现分叉。

请参照图4至8,图4为本发明刀装置的结构示意图。

本发明的刀装置包括本体部10和清洁组件20。

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