[发明专利]炉管机台和洁净室在审
| 申请号： | 201910096765.2 | 申请日： | 2019-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN109629006A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 潘国卫;宋海;李召峰;王秉国 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C30B33/00 | 分类号： | C30B33/00;C23C16/458 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 董琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理装置 炉管机台 反应腔室 控制装置 装载装置 洁净室 安装空间 垂直放置 底面齐平 底面 晶舟 容纳 | ||
1.一种炉管机台，其特征在于，包括：
处理装置，包括反应腔室，所述反应腔室用于容纳垂直放置的晶舟；
装载装置，与所述处理装置的一侧固定连接；
控制装置，与所述处理装置的另一侧固定连接；
所述装载装置和控制装置的底面齐平，且高于所述处理装置的底面。
2.根据权利要求1所述的炉管机台，其特征在，所述装载装置和控制装置的底面与所述处理装置底面的高度差为50cm～80cm。
3.根据权利要求1所述的炉管机台，其特征在，所述装载装置与处理装置分别具有一道隔离门，两道隔离门位置相对；当两道隔离门开启时，所述装载装置与处理装置连通。
4.根据权利要求1所述的炉管机台，其特征在，所述处理装置的高度为3500mm～4263mm。
5.一种洁净室，用于放置如权利要求1至4中任一项所述的炉管机台，其特征在于，包括：
地板，所述地板具有凹陷处；
所述炉管机台的处理装置的底部位于所述凹陷处内且底面置于所述凹陷处底部表面上；
所述装载装置和控制装置的底面置于所述地板表面。
6.根据权利要求5所述的洁净室，其特征在于，所述装载装置和所述控制装置的底面与所述处理装置底面的高度差与所述凹陷处的凹陷深度相同。
7.根据权利要求5所述的洁净室，其特征在于，所述地板包括第一层地板和第二层地板，所述第二层地板架空于所述第一层地板表面，且所述第二层地板具有镂空处；所述处理装置的底部穿过所述镂空处，置于所述第一层地板表面。
8.根据权利要求7所述的洁净室，其特征在于，所述镂空处的形状、尺寸与所述处理装置的形状、尺寸匹配。
9.根据权利要求7所述的洁净室，其特征在于，所述镂空处边缘一定距离范围内的第二层地板可拆卸。
10.根据权利要求7所述的洁净室，其特征在于，所述装载装置和所述控制装置的底面与所述处理装置底面的高度差与所述第二层地板地板表面和第一层地板之间的距离相等。
11.根据权利要求5所述的洁净室，其特征在于，所述凹陷处的凹陷深度为50cm～80cm。
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