[发明专利]研磨装置

权利要求书

1.一种研磨装置，其特征在于包括：

第一移送单元，具备沿第一方向延伸的第一轨道、沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二轨道、及沿所述第一轨道与所述第二轨道移送研磨对象体的第一抓持器；

第一平台单元，装设并固定由所述第一抓持器移送的所述研磨对象体；

第一研磨单元，配置到与所述第一平台单元对应的位置，包括至少一个第一主轴，为了对所述研磨对象体进行研磨而能够朝所述第一平台单元移动；

第一相机单元，所述第一相机单元配置到所述第一抓持器朝所述第一方向移动的路径上，感测由所述第一抓持器抓持的所述研磨对象体的对准状态而产生所述研磨对象体的对准数据；以及

第一调整单元，从所述第一相机单元接收所述对准数据且根据所述对准数据修正所述研磨对象体的位置，所述第一抓持器将由所述第一调整单元修正位置的所述研磨对象体装设到所述第一平台单元。

2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

在具备两个以上的所述第二轨道的情况下，多个所述第二轨道相互平行地配置。

3.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一抓持器朝与所述第一方向及所述第二方向交叉的第三方向抬高或降低所述研磨对象体。

4.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于还包括：

第二移送单元，具备沿所述第一方向延伸且平行于所述第一轨道的第三轨道、沿所述第二方向延伸的第四轨道、及沿所述第三轨道与所述第四轨道移送所述研磨对象体的第二抓持器；

第二平台单元，装设并固定由所述第二抓持器移送的所述研磨对象体；以及

第二研磨单元，配置到与所述第二平台单元对应的位置，包括至少一个第二主轴，为了对所述研磨对象体进行研磨而能够朝所述第二平台单元移动。

5.根据权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，

所述第二研磨单元以平行于所述第一方向的假想延长线为基准而与所述第一研磨单元对称地配置。

6.根据权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一研磨单元与所述第二研磨单元为相同的研磨单元。

7.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一相机单元能够根据所述研磨对象体的尺寸调整位置。

8.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，

所述第二轨道的个数与所述第一平台单元的个数不同。

9.根据权利要求8所述的研磨装置，其特征在于，

所述第一抓持器以与多个所述第一平台单元对应的方式具备多个抓持器部。

10.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，

所述研磨对象体在通过所述第一轨道朝所述第一方向移送后，通过所述第二轨道朝所述第二方向移送，朝所述第三方向下降而装设到所述第一平台单元。

11.一种研磨装置，其特征在于包括：

一个以上的第一研磨单元，包括至少一个第一主轴，沿第一方向配置；

一个以上的第一平台单元，配置到与所述第一研磨单元对应的位置，装设研磨对象体；以及

第一移送单元，具备第一抓持器，所述第一抓持器沿所述第一方向延伸的第一轨道、沿所述第一轨道移动且沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸的第二轨道、及连接到所述第二轨道而通过所述第二轨道的移动朝所述第一方向移动或沿所述第二轨道朝所述第二方向移动来将所述研磨对象体搬送到所述第一平台单元；

第一相机单元，所述第一相机单元配置到所述第一抓持器朝所述第一方向移动的路径上，感测由所述第一抓持器抓持的所述研磨对象体的对准状态而产生所述研磨对象体的对准数据；以及

第一调整单元，从所述第一相机单元接收所述对准数据且根据所述对准数据修正所述研磨对象体的位置，所述第一抓持器将由所述第一调整单元修正位置的所述研磨对象体装设到所述第一平台单元。