[发明专利]一种齿科修复材料用甲基丙烯酸酯单体及其制备方法

说明书

本发明公开一种齿科修复材料用甲基丙烯酸酯单体，涉及高分子材料合成领域，基于现有的光固化体系中使用的胺助引发剂易从固化体系中迁移的问题而提出的，其具有以下 化学结构式：本发明还公开了上述单体的制备方法，包括以下步骤：(1)称取甲基丙烯酸缩水甘油酯和丙烯酸，加入催化剂和阻聚剂进行反应；(2)向反应体系中滴加胺类化合物继续反应；(3)反应结束后，对反应产物进行洗涤和干燥；本发明的有益效果在于：有效避免活性胺的迁移，从而避免从齿科修复材料中迁移析出，而影响齿科修复材料的适用性。

技术领域

本发明涉及高分子材料合成领域，具体涉及一种齿科修复材料用甲基丙烯酸酯单体及其制备方法。

背景技术

光固化齿科修复材料是采用光敏树脂和二氧化硅填料混合而形成的复合材料。未固化的材料具有可塑性，经过紫外光固化后获得具有较强硬度和机械强度的固化材料。

通常光敏型树脂的组成为甲基丙烯酸酯类的树脂和单体，从而具有较强的力学性能和机械强度。目前，光固化齿科修复材料中的光敏树脂的用的稀释剂包括三乙二醇二甲基丙烯酸酯，乙二醇二甲基丙烯酸酯等。

光敏树脂中常用的引发剂为樟脑醌类引发剂，此类引发剂为夺氢型引发剂，需要加入胺助引发剂方能引发体系固化。普通的活性胺助引发剂引发体系固化后有从固化体系中迁移的可能，活性胺迁移可能引发炎症，过敏等问题，从而影响光敏树脂的使用安全性。

发明内容

本发明所要解决的问题在于现有的光固化体系中使用的胺助引发剂易从固化体系中迁移。

本发明是采用以下技术方案解决上述技术问题的：

一种齿科修复材料用甲基丙烯酸酯单体，其具有以下化学结构式：

其中n＝2-4，p＝1-4。

本发明还提供一种齿科修复材料用甲基丙烯酸酯单体的制备方法，包括以下步骤：

(1)称取甲基丙烯酸缩水甘油酯，加入催化剂和阻聚剂，搅拌，升温至反应温度，向其中滴加丙烯酸，反应后，测试其酸值，当酸值小于10mg KOH/g时，停止反应；

(2)冰浴条件下，向反应体系中滴加胺类化合物，滴加完毕后，升温，继续反应；

(3)反应结束后，降温至室温，对反应产物进行洗涤后，进行干燥。

优选的，所述步骤(1)中甲基丙烯酸缩水甘油酯与丙烯酸的摩尔比为1:1.05-1.1。

优选的，所述步骤(1)中的催化剂为四甲基氯化铵、四丁基溴化铵、三苯基磷中的一种或两种，所述催化剂的加入量为甲基丙烯酸缩水甘油酯和丙烯酸总质量的1-3wt％。

优选的，所述步骤(1)中的阻聚剂为羟基苯甲醚，其加入量为甲基丙烯酸缩水甘油酯和丙烯酸总质量的0.1-0.5wt％。

优选的，所述步骤(1)中的反应温度为90-120℃。

优选的，所述步骤(1)中的反应时间为3-4h。

优选的，所述胺类化合物为N,N’-二甲基乙二胺、N,N’-二甲基-1,3-丙二胺、N,N’-二甲基-1,4-丁二胺、哌嗪、乙胺、丙胺、正丁胺中的一种。

优选的，所述步骤(2)中的温度升温至60-80℃。

优选的，所述步骤(3)中将反应产物用去离子水洗涤2-3次，用1wt％NaOH溶液洗涤2次后，加入无水硫酸钠进行干燥。

本发明的有益效果在于：

本发明制备的二官能度的甲基丙烯酸酯活性稀释剂，可作为樟脑醌的助引发剂，用于齿科修复材料中，可避免使用可迁移的活性胺类助引发剂，降低齿科修复材料固化后的细胞毒性。