[发明专利]一种OLED显示面板及其制备方法有效
申请号: | 201910049575.5 | 申请日: | 2019-01-18 |
公开(公告)号: | CN109713021B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 刘华龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 oled 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种OLED显示面板,其特征在于,所述OLED显示面板包括:
显示器件板;
绕所述显示器件板上的显示区设置的围堰;
设置在所述显示器件板上且位于所述围堰的内侧的透明导电金属层;以及,
设置在所述透明导电金属层上的发光层;
其中,所述显示器件板上绕所述显示区还设置有由亲水性材料制成的垫层,所述围堰设置在所述垫层上;所述透明导电金属层向靠近所述垫层的方向倾斜向上延伸,并且,所述透明导电金属层的边缘位于所述垫层上;所述垫层的内侧向靠近所述显示区的方向倾斜向下设置。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述透明导电金属层的纵截面的整体形状呈椭圆弧状或圆弧状。
3.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述垫层的内侧的坡度为5~45度。
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板,其特征在于,所述透明导电金属层的厚度为10~200纳米。
5.根据权利要求4所述的OLED显示面板,其特征在于,所述垫层的厚度为20~200纳米。
6.一种OLED显示面板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S 10、提供一显示器件板;
S20、使用亲水性材料在所述显示器件板上形成绕显示区设置的垫层;
S30、在所述垫层的内侧形成透明导电金属层,所述透明导电金属层向靠近所述垫层的方向倾斜向上延伸,并且,所述透明导电金属层的边缘位于所述垫层上;所述垫层的内侧向靠近所述显示区的方向倾斜向下设置;
S40、在所述垫层上形成绕显示区设置的围堰;
S50、在所述透明导电金属层上形成发光层。
7.根据权利要求6所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,所述透明导电金属层的纵截面的整体形状呈椭圆弧状或圆弧状。
8.根据权利要求6所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,所述垫层的内侧的坡度为5~45度。
9.根据权利要求6所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,所述透明导电金属层的厚度为10~200纳米。
10.根据权利要求9所述的OLED显示面板的制备方法,其特征在于,所述垫层的厚度为20~200纳米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的