[发明专利]OLED显示面板及其制作方法在审
| 申请号： | 201910045864.8 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN109713019A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 何昆鹏;张晓星 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 平坦化层 薄膜晶体管基板 边缘设置 非显示区 阳极层 金属残留 逐渐变薄 边缘段 显示区 段差 申请 制作 | ||
1.一种OLED显示面板，其特征在于，包括：
薄膜晶体管基板，所述薄膜晶体管基板包括显示区和非显示区；
设置在所述薄膜晶体管基板上的平坦化层，所述平坦化层的边缘设置于所述非显示区；
设置在所述平坦化层上的阳极层；
其中，所述平坦化层的边缘的段差处设置有辅助坡，所述辅助坡沿靠近所述平坦化层至远离所述平坦化层方向上逐渐变薄。
2.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述辅助坡的斜坡面为连续波浪状。
3.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述辅助坡与所述平坦化层的边缘贴合，所述辅助坡的顶部与所述平坦化层的边缘齐平。
4.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述辅助坡与所述平坦化层采用同种材料制备。
5.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述辅助坡的斜坡面为连续台阶状，所述台阶的个数大于或者等于1。
6.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，每个所述辅助坡的坡度大于30度并小于60度。
7.一种OLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
步骤S10、提供一薄膜晶体管基板，所述薄膜晶体管基板包括显示区和非显示区；
步骤S20、在所述薄膜晶体管基板上采用光罩工艺形成平坦化层，所述平坦化层的边缘位于所述非显示区域，在所述平坦化层的边缘形成辅助坡，所述辅助坡沿靠近所述平坦化层至远离所述平坦化层方向上逐渐变薄；
步骤S30、在所述平坦化层上形成阳极层。
8.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述平坦化层与所述辅助坡的制备材料相同，所述平坦化层与所述辅助坡在同一道光罩工艺中制备。
9.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述辅助坡与所述平坦化层的边缘贴合，所述辅助坡的顶部与所述平坦化层的边缘齐平。
10.根据权利要求7所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤S30包括：在所述平坦化层上形成阳极金属薄膜，在所述阳极金属薄膜上涂布光阻层，对涂布有所述光阻层的所述阳极金属薄膜进行曝光、显影、蚀刻，形成阳极层。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
