[发明专利]一种用于晶圆处理设备的装载室有效

专利信息
申请号: 201910043502.5 申请日: 2019-01-17
公开(公告)号: CN109786304B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 王亮;荒见淳一;周仁;刘春 申请(专利权)人: 拓荆科技股份有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L21/67;C23C16/54
代理公司: 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人: 甄玉荃
地址: 110179 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 处理 设备 装载
【权利要求书】:

1.一种用于晶圆处理设备的装载室,用于实现真空环境和大气环境的过渡,包括装载腔体组合、前端隔离阀门、后端隔离阀门,其特征在于,所述装载腔体组合包括装载腔本体、一个或复数个腔体加热器,所述装载腔本体为一体式加工成型,利用中间隔离板,被分割成四个腔室,上部两个腔室和下部两个腔室又进一步的通过出气通道而串联;所述腔体加热器与装载腔本体耦接,可根据具体的腔体热分布调整腔体加热器的位置;

所述装载腔体组合还包括晶圆加热器,其位于下层腔内,固定在下层支撑板上,用于加热晶圆;

所述装载腔本体还包括上层进气口,上层出气口,下层进气口和下层出气口,上层进气口和下层进气口设计在腔壁外侧,上层出气口和下层出气口设计在腔壁的内侧;

所述上下层之间的隔离板为可拆卸;

所述装载腔本体结构分为上层盖板安装槽,上层腔体区域,中心板安装槽,下层腔体区域,以及下层支撑板安装槽,所述上层盖板安装槽,上层腔体区域,中心板安装槽,下层腔体区域,从上至下,呈阶梯状,直径尺寸递减,晶圆加热器直径尺寸小于层腔体区域。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆处理设备的装载室,其特征在于,所述装载腔体组合还包括下层支撑件升降系统,所述支撑件升降系统包含升降气缸,支撑件基座和复数个晶圆支撑件。

3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆处理设备的装载室,其特征在于,所述装载腔本体的外壁使用保温板包附。

4.根据权利要求3所述的一种用于晶圆处理设备的装载室,其特征在于,所述保温板为低导热系数材料,导热系数小于0.5W/(m·K)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拓荆科技股份有限公司,未经拓荆科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910043502.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top