[发明专利]一种二极管酸洗设备有效
申请号: | 201910030066.8 | 申请日: | 2019-01-14 |
公开(公告)号: | CN109755161B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 温岭市小二郎鞋厂(普通合伙) |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京高航知识产权代理有限公司 11530 | 代理人: | 乔浩刚 |
地址: | 317500 浙江省台州市温岭市横*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 酸洗 设备 | ||
本发明涉及二极管酸洗领域,具体的说是一种二极管酸洗设备,包括酸洗池、存放机构、搅拌机构、驱动机构、转动机构、加固机构和支撑机构;通过转动机构和存放机构的配合使用,从而使转动机构带动存放机构在酸洗池的酸洗液中转动,从而对酸洗池中的酸洗液进行搅拌,从而提高反应后酸洗液的浓度,从而便于芯片的继续反应,从而加速芯片与酸洗液的反应,并且保证芯片的反应效果相同;通过转动机构配合支撑机构和加固机构的使用,从而便于支撑机构固定于酸洗池的顶端,利用加固机构防止支撑机构的偏移,从而防止转动机构中的第二齿轮和齿条的啮齿错位,导致两者的啮齿损坏。
技术领域
本发明涉及二极管酸洗领域,具体的说是一种二极管酸洗设备。
背景技术
二极管,电子元件当中,一种具有两个电极的装置,只允许电流由单一方向流过,许多的使用是应用其整流的功能。而变容二极管则用来当作电子式的可调电容器。大部分二极管所具备的电流方向性我们通常称之为“整流”功能。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过,反向时阻断。因此,二极管可以想成电子版的逆止阀。在二极管生产的过程中需要对二极管的芯片进行酸洗。
但是在二极管酸洗的过程中,由于大量的芯片堆积在酸洗池中进行酸洗,但是由于芯片比较脆弱,无法对处于酸洗池中的芯片进行搅拌,从而无法使大量的芯片在酸洗过程中的反应效果相同,从而导致一些芯片过度酸洗报废,一些芯片没有酸洗完全需要再加工,但是由于芯片太小,从而挑选十分费力。鉴于此,本发明提供一种二极管酸洗设备,具有以下特点:
(1)本发明所述的一种二极管酸洗设备,通过转动机构和存放机构的配合使用,从而使转动机构带动存放机构在酸洗池的酸洗液中转动,从而对酸洗池中的酸洗液进行搅拌,从而提高反应后酸洗液的浓度,从而便于芯片的继续反应,从而加速芯片与酸洗液的反应,并且保证芯片的反应效果相同。
(2)本发明所述的一种二极管酸洗设备,通过转动机构配合支撑机构和加固机构的使用,从而便于支撑机构固定于酸洗池的顶端,利用加固机构防止支撑机构的偏移,从而防止转动机构中的第二齿轮和齿条的啮齿错位,导致两者的啮齿损坏。
(3)本发明所述的一种二极管酸洗设备,通过搅拌机构的使用,从而利用搅拌机构对酸洗池中的酸洗液进行搅拌,从而保证酸洗液的各个部分的浓度和温度相同,从而保证同一批的芯片和酸洗液的反应程度相同,从而有利于芯片的成批生产。
发明内容
针对现有技术中的问题,本发明提供了一种二极管酸洗设备,通过转动机构和存放机构的配合使用,从而使转动机构带动存放机构在酸洗池的酸洗液中转动,从而对酸洗池中的酸洗液进行搅拌,从而提高反应后酸洗液的浓度,从而便于芯片的继续反应,从而加速芯片与酸洗液的反应,并且保证芯片的反应效果相同,通过转动机构配合支撑机构和加固机构的使用,从而便于支撑机构固定于酸洗池的顶端,利用加固机构防止支撑机构的偏移,从而防止转动机构中的第二齿轮和齿条的啮齿错位,导致两者的啮齿损坏,通过搅拌机构的使用,从而利用搅拌机构对酸洗池中的酸洗液进行搅拌,从而保证酸洗液的各个部分的浓度和温度相同,从而保证同一批的芯片和酸洗液的反应程度相同,从而有利于芯片的成批生产。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种二极管酸洗设备,包括酸洗池、存放机构、搅拌机构、驱动机构、转动机构、加固机构和支撑机构,用于存放酸洗液的所述酸洗池的顶端固定连接用于支撑的所述支撑机构,用于提供动力的所述驱动机构固定连接用于存放酸洗液的所述酸洗池,用于转动的所述转动机构固定连接用于支撑的所述支撑机构的侧壁,用于转动的所述转动机构转动连接用于驱动的所述驱动机构,用于转动的所述转动机构转动连接用于支撑的所述支撑机构,用于存放芯片的所述存放机构与用于转动的所述转动机构之间螺纹连接,用于搅拌酸洗液的所述搅拌机构固定安装于用于存放酸洗液的所述酸洗池内,用于加固的所述加固机构的底端固定连接所述支撑机构的顶端。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温岭市小二郎鞋厂(普通合伙),未经温岭市小二郎鞋厂(普通合伙)许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910030066.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:晶圆清洗机构
- 下一篇:一种转移装置、Micro-LED晶粒及转移方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造