[发明专利]点云译码方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910029219.7 申请日: 2019-01-12
公开(公告)号: CN111435992B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 蔡康颖;张德军 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H04N19/42 分类号: H04N19/42;H04N19/46;H04N19/176;H04N19/103;H04N19/597
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 译码 方法 装置
【说明书】:

本申请公开了点云译码方法及装置,涉及编解码技术领域,有助于减少经重构的点云中的outlier点,从而提高点云的编解码性能。点云译码方法包括:对待译码点云的第一占用图进行放大,得到第二占用图;第二占用图的分辨率大于第一占用图的分辨率;如果第一占用图中的基准像素块是边界像素块,则将第二占用图中的待处理像素块中第一目标位置的像素标记为已占用,和/或将该待处理像素块中第二目标位置的像素标记为未占用,该待处理像素块对应于该基准像素块;如果该基准像素块是非边界像素块,则将该待处理像素块中的像素均标记为已占用或均标记为未占用;根据经标记的第二占用图重构待译码点云。

技术领域

本申请涉及编解码技术领域,尤其涉及点云(point cloud)译码方法及装置。

背景技术

随着3d传感器(例如3d扫描仪)技术的不断发展,采集点云数据越来越便捷,所采集的点云数据的规模也越来越大。面对海量的点云数据,对点云的高质量压缩、存储和传输就变得非常重要。

为了节省码流传输开销,编码器对待编码点云进行编码时,通常需要对待编码点云的原始分辨率的占用图进行下采样处理,并将经下采样处理的占用图(即低分辨率的占用图)的相关信息发送给解码器。基于此,编码器和解码器在重构点云时,需要先对经下采样处理的占用图进行上采样处理,得到原始分辨率的占用图,再基于经上采样处理的占用图重构点云。

按照传统方法,对于经下采样处理的占用图中的任意一个像素而言,如果该像素的值为1,则该像素经上采样处理后得到的像素块中的所有像素的值均为1;如果该像素的值为0,则该像素经上采样处理后得到的像素块中的所有像素的值均为0。

上述方法会导致点云经上采样处理的占用图产生锯齿状的边缘,从而导致基于经上采样处理的占用图重构得到的点云中出现较多的outlier点(即离群点或异常点),进而影响点云的编解码性能。

发明内容

本申请实施例提供了点云编解码方法及装置,有助于减少经重构的点云中的outlier点,从而有助于提高点云的编解码性能。

第一方面,提供了一种点云译码方法,包括:对待译码点云的第一占用图进行放大,得到第二占用图;第一占用图的分辨率是第一分辨率,第二占用图的分辨率是第二分辨率,第二分辨率大于第一分辨率;如果第一占用图中的基准像素块是边界像素块,则将第二占用图中的待处理像素块中第一目标位置的像素标记为已占用,和/或将该待处理像素块中第二目标位置的像素标记为未占用,得到经标记的像素块,其中,该待处理像素块对应于该基准像素块;如果该基准像素块是非边界像素块,则将该待处理像素块中的像素均标记为已占用或均标记为未占用,得到经标记的像素块;根据经标记的第二占用图,重构待译码点云;该经标记的第二占用图包括该经标记的像素块。本技术方案,在对待译码点云进行上采样处理的过程中,将未标记的高分辨率的点云占用图中的待处理像素块中局部位置的像素标记为已占用(例如置1),和/或将该待处理像素块中局部位置的像素标记为未占用(例如置0)。这样,有助于实现经上采样处理的占用图尽量接近待译码点云的原始占用图,相比基于传统的上采样方法,可以减少经重构的点云中的outlier点,因此,有助于提高编解码性能。

其中,第二占用图中的每个像素均未进行标记,因此第二占用图可以认为是空占用图。

为了简化描述,本申请实施例中采用“基准像素块”表示第一占用图中的某个像素块(具体可以是第一占用图中的任意一个像素块)。其中,该某个像素块与第二占用图中的待处理像素块相对应,具体的,待处理像素块是该“基准像素块”经放大得到的像素块。另外,本申请实施例中的“标记”可以替换为“填充”,在此统一说明,下文不再赘述。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910029219.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top