[发明专利]无镉量子点及其制备方法、无镉量子点组合物有效

专利信息
申请号: 201910026226.1 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN111434750B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 高静;乔培胜;汪均 申请(专利权)人: 纳晶科技股份有限公司
主分类号: C09K11/88 分类号: C09K11/88;C09K11/70
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 胡拥军;糜婧
地址: 310052 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 量子 及其 制备 方法 组合
【说明书】:

发明公开了无镉量子点及其制备方法、无镉量子点组合物。本发明的无镉量子点包括量子点核,该量子点核包括以化学键结合的III族元素、V族元素和VI族元素,其中III族元素为阳离子,V族元素以及VI族元素为阴离子。本发明在现有的III‑V族量子点核中引入VI族元素阴离子,有利于缩小量子点核的半峰宽,提高量子效率。

技术领域

本发明涉及量子点技术领域,尤其涉及无镉量子点及其制备方法、无镉量子点组合物。

背景技术

量子点,也叫半导体纳米晶,由于其具有发光波长可调、发光效率高、稳定性好等优点,在显示、照明、生物及太阳能电池等领域有着广泛的应用。

近年来,CdSe、CdS等II-VI族基量子点材料的研究取得了极大的进展,其效率、半峰宽,稳定性等性能得到很大提高,并已应用于显示、生物等领域。无镉量子点的发展也取得了很大的进步,目前已经有商业化的应用,但是与含镉量子点的性能比还存在差距,主要体现在半峰宽较宽,效率低等方面。

目前常见的无镉量子点为一般为InP基量子点,常见的InP基量子点的核主要为InP核,或者掺杂的InP核,如InZnP、InGaP等。核的合成方法主要有热注入法和一锅煮法。为了提高效率和稳定性采用的主要方法有:(1)采用酸性试剂对量子点进行刻蚀,例如加入HF,NH4F等弱酸性试剂进行表面处理,InP量子点的效率可以从小于1%提升至20~40%。(2)在InP核外面包覆ZnSe和ZnS壳层,以构建一种核壳结构的量子点。

发明内容

为了克服现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种无镉量子点及其制备方法,制得的无镉量子点半峰宽较窄,量子效率高。

根据本发明的一个方面,提供一种无镉量子点,包括量子点核,所述量子点核包括以化学键结合的III族元素、V族元素和VI族元素,其中III族元素为阳离子,V族元素以及VI族元素为阴离子。

进一步地,所述量子点核为InPSe或InPS。

进一步地,所述无镉量子点还包括包覆在所述量子点核外的壳层,所述壳层包括以化学键结合的II族元素和VI族元素,或者以化学键结合的II族元素、III族元素和VI族元素,或者以化学键结合的II族元素、III族元素和V族元素,或者以化学键结合的II族元素、III族元素、V族元素和VI族元素,其中所述II族元素不包括镉元素。

进一步地,所述壳层选自以下一层或多层的组合:InZnP、InZnPSe、InZnPS、InZnSe、InZnS、InZnSeS、ZnSe、ZnSeS、ZnS。

根据本发明的另一个方面,提供一种无镉量子点的制备方法,包括以下步骤:

S1,提供III族元素前体混合物、V族元素前体混合物以及VI族元素前体混合物;

S2a,在第一温度下将所述III族元素前体混合物与所述V族元素前体混合物混合,升温或降温至第二温度后加入所述VI族元素前体混合物进行反应形成量子点核,优选地,所述第一温度为室温~310℃,所述第二温度为150~310℃;

或者,S2b,在第一温度下将所述III族元素前体混合物与所述VI族元素前体混合物混合,升温至第二温度后加入所述V族元素前体混合物进行反应形成量子点核,优选地,所述第一温度为100~200℃,所述第二温度为200~310℃;

或者,S2c,在第三温度下将所述III族元素前体混合物、所述VI族元素前体混合物与所述V族元素前体混合物混合,然后升温至第四温度进行反应形成量子点核,优选地,所述第三温度为室温~150℃,所述第四温度为150~310℃。

进一步地,所述步骤S2a或S2b或S2c之后还包括以下步骤:

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