[发明专利]一种柔性显示基板的制备方法

说明书

本发明提供一种柔性显示基板的制备方法，属于显示技术领域，其可解决现有的钢性衬底与柔性衬底之间分离力不可控的问题。本发明的柔性显示基板的制备方法通过控制与刚性衬底接触的易分离结构、平坦化层的面积比例，控制刚性衬底与柔性衬底的分离力的大小。该方法无需激光剥离，控制上述面积比例，既能保证易于机械分离，又可保证形成显示元件的过程中不从刚性衬底上滑落。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种柔性显示基板的制备方法。

背景技术

制备柔性OLED显示装置时，通常是先将柔性衬底依附在钢性衬底，例如玻璃衬底上，然后进行后续的显示元件的制备，如形成TFT，有机发光层，封装层等，完成上述制备显示元件的工艺后，再将柔性衬底与玻璃衬底进行激光剥离得到柔性显示产品。

然而在制备TFT，有机发光层，封装层的过程中，均有可能在玻璃衬底的背面留下清洗不掉的颗粒或有机物，在激光剥离的工艺中，激光照向玻璃衬底背面的一侧，这些颗粒或有机物会挡住激光，导致颗粒对应的部分衬底受到的激光能量低，无法实现正常的剥离，然而，这些颗粒与玻璃的粘附性却没有降低，若没有被激光剥离的颗粒或有机物采用强劲的机械剥离，很容易导致柔性衬底上的功能层的断线，致使产品显示不良。

若通过钢性衬底与柔性衬底之间预先设置结构层，通过分离结构层从而将钢性衬底与柔性衬底分开，发明人发现仍然存在如下问题：若分离力不可控，分离力太大仍然容易损伤柔性衬底上的功能层；若分离力太小，不等完成后续的显示元件的制备，柔性衬底就会从钢性衬底上滑落，与钢性衬底分开，导致无法顺利完成所有显示元件的制备。

发明内容

本发明针对现有的钢性衬底与柔性衬底之间分离力不可控的问题，提供一种柔性显示基板的制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是：

一种柔性显示基板的制备方法，包括以下制备步骤：

在刚性衬底上形成易分离层，所述易分离层包括多个易分离结构，所述易分离结构之间具有开口间隙；

在易分离结构背离刚性衬底的一侧形成平坦化层，所述平坦化层填充所述开口间隙并与刚性衬底接触；

在平坦化层背离刚性衬底的一侧形成柔性衬底；

在柔性衬底背离刚性衬底的一侧形成显示元件；

将刚性衬底至少与其上的平坦化层进行机械分离，以使刚性衬底与柔性衬底分离；

其中，平坦化层与柔性衬底的附着力大于平坦化层与刚性衬底的附着力；同样面积的刚性衬底，直接接触于其上的平坦化层与其分离的力大于平坦化层和易分离结构均接触时分离的力。

可选的是，所述易分离结构与刚性衬底之间的附着力小于所述平坦化层与刚性衬底之间的附着力。

可选的是，所述易分离结构至刚性衬底上的正投影落入柔性衬底至刚性衬底上的正投影范围内。

可选的是，所述柔性衬底至刚性衬底上的正投影落入平坦化层至刚性衬底上的正投影范围内。

可选的是，在对应开口间隙的位置处，且垂直于所述衬底的方向上，所述平坦化层的尺寸小于900埃米。

可选的是，所述平坦化层由隔阻水氧的绝缘材料构成。

可选的是，所述平坦化层由氮化硅构成。

可选的是，所述易分离结构包括第一分离层和第二分离层，所述第一分离层相较于所述第二分离层更靠近刚性衬底形成；所述第一分离层与刚性衬底之间的附着力大于所述第一分离层与第二分离层之间的附着力。

可选的是，所述形成易分离层包括：

形成钼金属层；