[发明专利]一种柔性显示基板的制备方法

权利要求书

1.一种柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：

在刚性衬底上形成易分离层，所述易分离层包括多个易分离结构，所述易分离结构之间具有开口间隙；

在易分离结构背离刚性衬底的一侧形成平坦化层，所述平坦化层填充所述开口间隙并与刚性衬底接触；

在平坦化层背离刚性衬底的一侧形成柔性衬底；

在柔性衬底背离刚性衬底的一侧形成显示元件；

将刚性衬底至少与其上的平坦化层进行机械分离，以使刚性衬底与柔性衬底分离；

其中，平坦化层与柔性衬底的附着力大于平坦化层与刚性衬底的附着力；同样面积的刚性衬底，直接接触于其上的平坦化层与其分离的力大于平坦化层和易分离结构均接触时分离的力。

2.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述易分离结构与刚性衬底之间的附着力小于所述平坦化层与刚性衬底之间的附着力。

3.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述易分离结构至刚性衬底上的正投影落入柔性衬底至刚性衬底上的正投影范围内。

4.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述柔性衬底至刚性衬底上的正投影落入平坦化层至刚性衬底上的正投影范围内。

5.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，在对应开口间隙的位置处，且垂直于所述衬底的方向上，所述平坦化层的尺寸小于900埃米。

6.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述平坦化层由隔阻水氧的绝缘材料构成。

7.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述平坦化层由氮化硅构成。

8.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述易分离结构包括第一分离层和第二分离层，所述第一分离层相较于所述第二分离层更靠近刚性衬底形成；所述第一分离层与刚性衬底之间的附着力大于所述第一分离层与第二分离层之间的附着力。

9.根据权利要求8所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成易分离层包括：

形成钼金属层；

将钼金属层背离刚性衬底一侧的表面氧化形成氧化钼薄膜；

将钼金属层与氧化钼薄膜图案化得到多个易分离结构，所述易分离结构之间具有开口间隙。

10.根据权利要求1所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述多个易分离结构的图案包括多个相同或不同的图形，多个所述图形在刚性衬底上均匀分布，所述图形包括六菱形、四边形、圆形中的任意一种或几种。