[发明专利]锂靶材组件的制造方法

权利要求书

1.一种锂靶材组件的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供锂靶坯，所述锂靶坯具有第一主表面和与第一主表面相反的第一背面；

提供背板，所述背板具有第二主表面和与第二主表面相反的第二背面；

对所述背板的第二主表面进行镀锂处理，形成厚度为100nm至20μm的镀锂层；

将所述锂靶坯的第一主表面与所述背板的第二主表面上的镀锂层相对设置并贴合，形成初始组件；

通过真空焊接技术，在真空环境中，向所述初始组件施加压力，使所述锂靶坯与所述镀锂层结合，施加压力的时间为0.5小时至1.5小时，完成锂靶坯与背板的绑定，从而形成锂靶材组件。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述镀锂处理包括蒸镀、电沉积和化学镀中的一种；所述镀锂层的厚度为1μm至10μm。

3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述锂靶坯为纯度等于或大于99.9％的金属锂，或者所述锂靶坯为金属锂的质量百分比等于或大于60％的锂合金；所述背板由金属或合金制成。

4.如权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述金属或合金为铜、不锈钢、铝、铝合金，或其混合材料。

5.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括：在真空环境中，在向所述初始组件施加压力之前、同时或之后，对所述锂靶坯、所述背板中的一个或多个进行加热，或者对所述初始组件整体进行加热，以完成锂靶坯与背板的绑定。

6.如权利要求4所述的制造方法，其特征在于，对所述锂靶坯进行加热时的加热温度为30℃至180℃；或，对所述背板进行加热时的加热温度为30℃至180℃。

7.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于，对所述锂靶坯进行加热时的加热温度为120℃至150℃。

8.如权利要求6所述的制造方法，其特征在于，对所述背板进行加热时的加热温度为120℃至150℃。

9.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括：

提供模具，其具有两端开放的腔室，所述腔室具有与所述锂靶坯相同的横截面形状，

在形成初始组件之前，或在形成初始组件之后但在施加压力和/或加热之前，将所述锂靶坯置于所述腔室中，用所述模具将所述锂靶坯的四周包围。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述的向所述初始组件施加压力在用施压块接触所述锂靶坯的第一背面的情况下进行，所述施压块具有与所述模具的腔室相同的横截面形状，从而所述施压块、所述模具和所述背板构成将所述锂靶坯包封在其中的封闭空间。

11.如权利要求10所述的制造方法，其特征在于，至少所述施压块的要与锂靶材接触的部分由防粘材料制成或涂有防粘材料涂层，或者在所述施压块与所述锂靶坯之间放置层状防粘材料。

12.如权利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述防粘材料包括聚酰胺6、聚酰胺66、聚乙烯、聚醚醚酮、聚四氟乙烯、陶瓷、含油或涂油薄膜。

13.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在对所述背板的第二主表面进行镀锂处理之前，对所述背板的至少第二主表面进行预处理，所述预处理包括清洗和/或表面粗糙化处理。

14.如权利要求13所述的制造方法，其特征在于，所述表面粗糙化处理包括通过物理或化学方法在表面上形成凸凹不同的形状。

15.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括：

在完成锂靶坯与背板的绑定之后，进行破真空操作，取出所述锂靶材组件。