[发明专利]一种在(001)晶面择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法有效

专利信息
申请号: 201910015675.6 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN109594067B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 汪洋;杨永兴;楼倩;杨文静 申请(专利权)人: 工业和信息化部电子第五研究所华东分所
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12;B82Y40/00
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 001 择优取向 生长 金红石 氧化 纳米 阵列 方法
【说明书】:

发明提供了一种在(001)晶面择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法。该方法包括以下步骤:1)制备Cr掺杂二氧化钛薄膜作为籽晶层;2)将步骤1)制得的Cr掺杂二氧化钛薄膜籽晶层置于生长液中,经水热生长,得到所述择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列。本发明的方法成本低廉、工艺要求简单、重复性好、可大规模制造,所制备的二氧化钛纳米线阵列在(001)方向具有良好的择优取向生长和紫外受激发光特性。

技术领域

本发明涉及纳米结构阵列技术领域,涉及一种纳米结构阵列自组装生长的方法,尤其涉及一种在(001)晶面择优取向生长的金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法,特别涉及一种在Cr掺杂氧化钛薄膜上择优取向生长金红石相二氧化钛纳米线阵列的方法。

背景技术

二氧化钛是一种典型的宽禁带直接带隙n型半导体,禁带宽度在3.0eV以上,同时,它也是一种无毒无污染的环保型材料,原料丰富,成本低廉,在医学、化学、物理和纳米材料等领域得到了广泛的关注与研究。近年来,随着太阳能电池和平面显示工业的发展,氧化钛薄膜由于其在可见光和近红外光区具有优良的光学透过率等特点而引起人们的极大兴趣。在组成二氧化钛薄膜的各种微观形貌中,一维的二氧化钛纳米线阵列具有良好的结构对称性,较高的电子迁移率等,因此也成为了二氧化钛薄膜的一个研究热点。

目前,二氧化钛纳米线阵列的制备方法主要包括基于气-液-固(VLS)机制的催化反应生长法、模板法、激光辅助化学气相淀积法、金属有机化学气相淀积法(MOCVD)、金属有机气相外延生长法(MOVPE)以及湿化学法、两步化学溶液法等。由于二氧化钛在不同方向的快速生长以及极性表面的诱导作用,使得它具有沿极化方向有着各向异性生长的特点,因而自组装方法也是制备二氧化钛纳米线阵列的一种重要途径。

二氧化钛纳米管阵列层的性能不仅和它们的形貌、尺寸和表面形态等因素有关;也与其组成物二氧化钛的结晶度、晶体类型和晶体择优取向有着密切的关系。二氧化钛有三种晶体结构:锐钛矿型、金红石型和板钛矿型,其中用作光催化的主要是锐钛矿型和金红石型,板钛矿型因为结构不稳定,很少被应用。金红石型二氧化钛(Rutile,简称R型)及锐钛型二氧化钛(Anatase,简称A 型)的结晶晶型均为正方结晶,但是金红石型二氧化钛的晶格结构致密,比较稳定,光化学活性小,因此其耐久性优于锐钛型二氧化钛;另外,金红石型二氧化钛晶体结构是细长的成对的孪生晶体,每个金红石晶胞含有2个二氧化钛分子,以两个棱相连,比锐钛型二氧化钛八面通的形式体积更小、结构更密,因而硬度和密度增大,介电常数和导热性增加,所以金红石型二氧化钛比锐钛型二氧化钛的耐候性更好,不易粉化。

近些年来,沿某一特定晶面方向择优生长的二氧化钛薄膜也逐渐发展起来。不同于以往的各种方向杂乱均匀生长的二氧化钛晶体,择优取向生长的二氧化钛晶体往往表现出在某一晶面方向上的强烈选择性,而很少或者基本不在其他晶面方向上生长。这种沿某一特定晶面方向择优生长的特点,能够极大地减少晶界处的缺陷,从而降低电子空穴的复合几率,提高电子传输速率。金红石型二氧化钛的晶面通常以最为稳定的(110)面出现,而(001)面由于表面能高、表面活性大而很少出现。获得一种以(001)面方向择优取向生长的金红石二氧化钛纳米线薄膜,将为相关领域应用提供良好的基础。

CN106830072A公开了一种二氧化钛纳米线阵列的制备方法,该制备方法包括以下步骤:1)将基底表面清洗;2)将钛的醇盐溶液分散在乙醇中,并加入盐酸,抑制钛源水解,混合后,涂覆在基底表面铺展成膜,煅烧后生成二氧化钛籽晶层;3)将涂覆二氧化钛籽晶层的基底放置于密闭的高压水热反应釜体系中,添加丙酮、钛酸四丁酯、混合酸的前驱体溶液,进行水热反应,即得二氧化钛纳米线阵列。该发明采用盐酸复合有机酸作为水热反应的酸性媒介,实现了一维二氧化钛纳米线阵列的生长,利用该方法所合成的二氧化钛纳米线具有高度取向性、结晶性良好、线径与长度可控、生产速率快、设备简单等特点,具有十分广阔的应用前景。该发明实现了一维结构的二氧化钛纳米线阵列的生长,但是不能保证在(001)晶面的择优取向生长。

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