[发明专利]一种显示背板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910007859.8 申请日: 2019-01-04
公开(公告)号: CN109728165B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 薛智勇;白妮妮;彭利满;刘亮亮;张倩倩;刘淑杰;李海龙;马玲玲;米红玉;刘旭;陈强;景国栋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;贾玉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 背板 及其 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明公开一种显示背板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决现有技术中存在于显示背板中基底上的凹陷区域,容易对识别对位标识产生影响的问题。所述显示背板包括基底以及设置在所述基底上的电子器件和对位标识,所述显示背板还包括:填充层,所述填充层填充位于所述基底背向所述电子器件的表面的至少部分凹陷区域,所述至少部分凹陷区域在所述基底上的正投影与所述对位标识在所述基底上的正投影之间的最小距离小于200μm。本发明提供的显示背板用于制作显示装置。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示背板及其制作方法、显示装置。

背景技术

目前,有机发光二极管显示装置的制备过程一般包括:如图1和图2所示,先制作显示背板,显示背板包括基底1和形成在基底1上的电子器件和对位标识3,然后在基底形成有电子器件和对位标识3的一侧继续形成发光单元,接着进行模组工艺,利用显微镜从基底1背向电子器件和对位标识3的一侧观察识别对位标识3的位置,然后在显示背板上绑定柔性电路板等模块。

但是当基底1背向电子器件和对位标识3的表面具有凹陷区域4,且该凹陷区域4位于显示背板中的对位标识3附近时,容易导致在进行模组工艺时,显示背板中的对位标识3无法被识别。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示背板及其制作方法、显示装置,用于解决现有技术中存在于显示背板中基底上的凹陷区域,容易对识别对位标识产生影响的问题。

为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

本发明的第一方面提供一种显示背板,包括基底,以及设置在所述基底上的电子器件和对位标识,所述显示背板还包括:

填充层,所述填充层填充位于所述基底背向所述电子器件的表面的至少部分凹陷区域,所述至少部分凹陷区域在所述基底上的正投影与所述对位标识在所述基底上的正投影之间的最小距离小于200μm。

可选的,所述填充层填充位于所述基底背向所述电子器件的表面的全部凹陷区域。

可选的,所述基底包括减薄后的基底,在垂直于所述基底的方向上,该减薄后的基底与所述填充层的总厚度小于所述基底在减薄前的厚度。

可选的,所述填充层在垂直于所述基底的方向上的最大厚度大于或等于所述凹陷区域在垂直于所述基底的方向上的深度。

可选的,所述填充层的光学性能与所述基底的光学性能相同。

基于上述显示背板的技术方案,本发明的第二方面提供一种显示装置,包括上述显示背板。

基于上述显示背板的技术方案,本发明的第三方面提供一种显示背板的制作方法,用于制作上述显示背板,所述制作方法包括:

在基底上形成电子器件和对位标识;

在所述基底背向所述电子器件的表面形成填充层,所述填充层填充位于所述基底背向所述电子器件的表面的至少部分凹陷区域,所述至少部分凹陷区域在所述基底上的正投影与所述对位标识在所述基底上的正投影之间的最小距离小于200μm。

可选的,在形成所述填充层之前,所述制作方法还包括:

对所述基底背向所述电子器件的表面进行减薄操作,在垂直于所述基底的方向上,减薄后的基底与所述填充层的总厚度小于所述基底在减薄前的厚度。

可选的,当所述填充层填充位于所述基底背向所述电子器件的表面的全部凹陷区域时,所述在所述基底背向所述电子器件的表面形成填充层的步骤具体包括:

在所述基底背向所述电子器件的表面涂布胶材,所述胶材填充所述全部凹陷区域,所述胶材的光学性能与所述基底的光学性能相同;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910007859.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top