[发明专利]一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置有效

专利信息
申请号: 201910002681.8 申请日: 2019-01-02
公开(公告)号: CN109722629B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 刘月;暴营 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/52;H01L51/56;H01L51/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜板 阴极 制作方法 oled 显示装置
【说明书】:

发明实施例提供一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置,涉及显示装置技术领域,能够解决现有的OLED显示装置的阴极覆盖率太高而导致对光线的透过率低的问题。所述掩膜板用于制作OLED显示装置的阴极,所述掩膜板包括:第一掩膜板,第一掩膜板上开设有多个第一开口,多个第一开口与OLED显示装置的多个子像素一一对应;每个第一开口在OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区;第二掩膜板,第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口,多个第二开口形成的图案可将多个第一开口形成的图案连通。本发明用于OLED显示装置的阴极制作。

技术领域

本发明涉及显示装置技术领域,尤其涉及一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置。

背景技术

随着科技的快速发展,智能手机越来越普及。为了追求更好的视觉体验,人们对手机显示面板不断地提出更高的要求。目前市面上大多触屏智能手机的正面整合了听筒、摄像头等设备,摄像头一般采用开孔方式设置在屏幕顶端,这样设置摄像头的区域就不能进行屏幕显示,因而造成屏幕不能得到有效利用。

为了改进这一情况,人们开始尝试将摄像头放在屏幕下方,将屏幕显示分为正常显示区域和低显示区域,用于人脸识别的红外摄像头就放置在屏幕低显示区域的下方。然而,尽管低显示区域分辨率低,像素排布稀疏,一部分红外线可以从像素间隙透过,但是发光器件的其余膜层依然会对红外线造成遮挡,尤其是发光器件的阴极,会严重影响红外线的透过率,进而影响红外摄像头的信息采集效果。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜板、阴极制作方法及OLED显示装置,能够解决现有的OLED显示装置的阴极覆盖率太高而导致对光线的透过率低的问题。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一方面,本发明实施例提供一种掩膜板,用于制作OLED显示装置的阴极,包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板上开设有多个第一开口,多个所述第一开口与所述OLED显示装置的多个子像素一一对应;每个所述第一开口在所述OLED显示装置的发光层上的投影覆盖与其对应的子像素的发光区;第二掩膜板,所述第二掩膜板上开设有多个条状的第二开口,多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案连通。

可选的,所述第一开口的尺寸大于与其对应的子像素的发光区尺寸。

可选的,所述第一开口的形状和与其对应的子像素的形状一致。

可选的,所述第一开口的形状为四边形、六边形、八边形和圆形中的任意一种。

可选的,多个所述第二开口形成的图案可将多个所述第一开口形成的图案两两连通。

可选的,所述第二开口形成的图案的两端连接在相邻两个所述第一开口形成的图案的边缘区域上;所述边缘区域为所述第一开口形成的图案中超出与其对应的子像素的发光区的区域。

可选的,所述第一掩膜板和所述第二掩膜板均为精细金属掩膜板。

另一方面,本发明实施例提供一种阴极制作方法,所述阴极通过上述任意一种所述的掩膜板来制作;所述方法包括:利用所述第一掩膜板在衬底上沉积导电材料,以形成多个阴极图形;利用所述第二掩膜板在形成有多个所述阴极图形的衬底上沉积导电材料,以形成连通的所述阴极。

再一方面,本发明实施例提供一种OLED显示装置,包括利用上述所述的阴极制作方法制作的阴极,所述阴极位于OLED显示装置的低显示区域。

可选的,所述OLED显示装置包括多个像素,所述像素为RGB Real排布;同一行像素包含的多个子像素中,红色子像素和蓝色子像素间隔排布成一行,绿色子像素位于红色子像素和蓝色子像素中间的下方位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910002681.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top