[发明专利]试样测定装置、程序及测定参数设定支持装置

说明书

本发明的试样测定装置包括：测定部(1)，进行试样的测定；以及控制部(2)，对由测定部所得的测定结果进行分析。控制部(2)构成为基于由测定参数的条件互不相同的多个测定条件所得的测定结果，使用模型式来推定并获取其他测定条件下的测定结果，并且基于所推定出的测定结果来推定测定品质指标相对于测定参数的分布。

技术领域

本发明涉及一种试样测定装置、程序及测定参数设定支持装置。

背景技术

以往，已知有试样测定装置。试样测定装置例如在日本专利特开2015-166726号公报中有所公开。

所述日本专利特开2015-166726号公报中公开了一种进行试样的分析的色谱仪(试样测定装置)。而且，所述日本专利特开2015-166726号公报中公开了一种色谱仪用数据处理装置，此色谱仪用数据处理装置在针对一个试样进行多个条件下的分析而探索最适于试样的分析条件的方法探索(method scouting)中，在针对分析条件的多个参数进行变更时，显示未研究的分析条件的列表。

而且，以往已知有下述品质管理方法，即：以响应曲面的形式求出用于试样分析的参数与品质指标的关系，以设计空间(design space)的形式算出设计上容许的参数的范围。

[现有技术文献]

[专利文献]

专利文献1：日本专利特开2015-166726号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

所述以往的算出设计空间的品质管理方法中，在基于若干测定点应用模型式来制作响应曲面时，若增多测定点数则响应曲面的精度变高，若测定点数少则精度降低。因此，需要取充分多的测定点而高精度地算出设计空间。或者，需要对设计空间设定充分的安全率。即，需要对根据测定结果所算出的设计空间设定安全率，适当缩窄设计空间的范围。另一方面，所述日本专利特开2015-166726号公报的色谱仪用数据处理装置中，在探索最适于试样的分析条件的方法探索中，在针对分析条件的多个参数进行变更时，可显示未研究的分析条件的列表，因而可容易地决定下一个进行分析的分析条件的测定点。但是，即便是在所述日本专利特开2015-166726号公报的色谱仪用数据处理装置中，为了高精度地算出设计空间也难以抑制分析条件的测定点数变多。而且，若为品质指标相对于参数成为线性关系的情况，则不难根据经验设定适当的安全率，但在作为色谱仪的品质指标的分离度那样品质指标相对于参数成为非线性关系的情况下，难以设定不过于缩窄设计空间的必要充分的安全率。这些情况的结果为，难以高精度地算出设计空间。因此，期望抑制分析条件的测定点数变多，并且高精度地算出容许的设计空间(测定参数的范围)。

本发明是为了解决所述那样的课题而成，本发明的一个目的在于提供一种试样测定装置、程序及测定参数设定支持装置，能够抑制测定点数变多并且高精度地算出容许的测定参数的范围。

[解决问题的技术手段]

为了达成所述目的，本发明的第一方面的试样测定装置包括：测定部，进行试样的测定；以及控制部，对由测定部所得的测定结果进行分析；且控制部构成为基于由测定参数的条件互不相同的多个测定条件所得的测定结果，使用模型式来推定并获取其他测定条件下的测定结果，并且基于所推定出的测定结果来推定测定品质指标相对于测定参数的分布。