[发明专利]半导体装置的制造方法、半导体装置、电力转换装置以及移动体在审
申请号: | 201880098917.6 | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN112956006A | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 林田幸昌;梅嵜勋;安富伍郎 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 制造 方法 电力 转换 以及 移动 | ||
1.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,具有以下工序:
将半导体芯片与金属图案连接;
通过冲裁而形成电极;以及
通过照相机对所述电极的毛刺面进行识别,使超声波接合工具进行按压,将所述电极的塌角面超声波接合于所述金属图案,
在所述毛刺面的端部存在毛刺,
所述毛刺面的所述端部的压溃量小于或等于10μm。
2.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,具有以下工序:
将半导体芯片与金属图案连接;
通过冲裁而形成电极;
在所述电极的毛刺面的角部形成标记形状;以及
通过照相机对形成有所述标记形状的所述毛刺面进行识别,使超声波接合工具进行按压,将所述电极的塌角面超声波接合于所述金属图案。
3.根据权利要求2所述的半导体装置的制造方法,其特征在于,
通过机械加工而形成所述标记形状。
4.一种半导体装置,其特征在于,具有:
金属图案;
半导体芯片,其与所述金属图案连接;以及
电极,其具有与所述金属图案接合的塌角面和在端部存在毛刺的毛刺面,
所述毛刺面的所述端部的压溃量小于或等于10μm。
5.一种半导体装置,其特征在于,具有:
金属图案;
半导体芯片,其与所述金属图案连接;以及
电极,其具有与所述金属图案接合的塌角面和在端部存在毛刺的毛刺面,
在所述毛刺面的角部设置有标记形状。
6.根据权利要求5所述的半导体装置,其特征在于,
所述标记形状呈L字形。
7.根据权利要求4至6中任一项所述的半导体装置,其特征在于,
所述半导体芯片由宽带隙半导体形成。
8.一种电力转换装置,其具有:
主转换电路,其具有权利要求4~7中任一项所述的半导体装置,该主转换电路对被输入来的电力进行转换而输出;
驱动电路,其将对所述半导体装置进行驱动的驱动信号向所述半导体装置输出;以及
控制电路,其将对所述驱动电路进行控制的控制信号向所述驱动电路输出。
9.一种移动体,其特征在于,
使用权利要求8所述的电力转换装置而进行电力控制。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱电机株式会社,未经三菱电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880098917.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:处置器具
- 下一篇:用户装置以及基站装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造