[发明专利]使用二衍射级成像的离轴照明覆盖测量

说明书

本发明提供增强测量的准确度且能够简化测量过程及改进计量目标与半导体装置之间的对应性的计量方法及工具。方法包含：以利特罗(Littrow)配置照明目标以产生包含‑1衍射级及0衍射级的第一测量信号及包含+1衍射级及0衍射级的第二测量信号，其中所述第一测量信号的所述‑1衍射级及所述第二测量信号的所述+1衍射级与所述照明的方向成180°衍射；执行所述第一测量信号的第一测量及所述第二测量信号的第二测量；及从所述第一测量及所述第二测量导出(若干)计量度量。任选地，反射0衍射级可经分裂以产生与所述‑1及+1衍射级相互作用的分量。

相关申请案的交叉引用

本申请案要求2018年8月28日申请的第62,723,944号美国临时专利申请案的权利，所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及计量领域，且更特定来说，本发明涉及增强测量准确度的照明及测量配置。

背景技术

光学覆盖测量通常归类到以下两个类型中的一者：成像或散射测量。在基于成像的覆盖(IBO)中，目标的图案并排印刷在两个单独层中，且在相对于光学系统的图像平面中测量其横向移位。在散射测量或基于衍射的覆盖(DBO)中，来自不同层的图案彼此上下印刷，且从堆叠的衍射级的振幅获得覆盖。此测量的详细原理超出本发明的范围。

成像技术可进一步分类为以下两个主要配置：亮场及暗场成像。在亮场成像中，图像由适合于系统的数值孔径的所有衍射级构成，而在暗场成像中，0级被阻挡。暗场成像通常用于极佳图像对比度/精确度。如先前工作中所指示，人们可通过级选择来改进测量准确度，例如第2007143056号WIPO公开案所教示，所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。例如，仅选择0级及±1级导致最佳对比焦点处的经改进准确度，例如第20170146915号美国专利公开申请案所教示，所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。可经由控制0级的振幅及相位来进一步改进此配置内的准确度及对比度，例如第20170146915号美国专利公开申请案所教示，所述案的全部内容以引用的方式并入本文中。在现有技术中，以牺牲信号振幅为代价，可通过仅选择±1级来实现最佳结果。

发明内容

以下是提供本发明的初步理解的简化概要。概要未必识别关键元件，且不限制本发明的范围，而是仅充当以下描述的介绍。

本发明的一方面提供一种由具有照明支部及收集支部的计量工具测量计量目标的方法，所述方法包含：由所述照明支部以利特罗(Littrow)配置照明所述目标以产生包含-1衍射级及0衍射级的第一测量信号及包含+1衍射级及0衍射级的第二测量信号，其中所述第一测量信号的所述-1衍射级及所述第二测量信号的所述+1衍射级与所述照明的方向成180°衍射；由所述收集支部执行所述第一测量信号的第一测量及所述第二测量信号的第二测量；及从所述第一测量及所述第二测量导出至少一个计量度量。

本发明的一方面提供一种由具有照明支部及收集支部的计量工具测量计量目标的方法，所述方法包含：由所述照明支部照明所述目标以产生反射0衍射级及-1及+1衍射级；在所述收集支部中将所述反射0衍射级分裂成由所述-1衍射级捕获的第一分量及由所述+1衍射级捕获的第二分量以产生对应第一测量及第二测量；及从所述第一测量及所述第二测量导出至少一个计量度量。

以下详细描述中阐述、可从详细描述中推断及/或可通过实践本发明来学习本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点。

附图说明

为更好地理解本发明的实施例且为了展示如何实现本发明的实施例，现将仅以举例方式参考附图，其中所有图中的相同元件符号表示对应元件或区段。

在附图中：

图1是说明根据本发明的一些实施例的计量工具及目标测量方法的高级示意性框图。

图2是根据本发明的一些实施例的使用可变照明实施的计量工具及测量的高级示意图。