[发明专利]摆动设备、处理基板的方法、用于从传递腔室接收基板的摆动模块和真空处理系统

权利要求书

1.一种摆动设备(10)，所述摆动设备用于相对于具有纵轴(31)的一或多个沉积源(30)移动基板(20)，所述摆动设备(10)包括：

支撑主体(40)，所述支撑主体用于保持所述基板(20)；

旋转机构(42)，所述旋转机构耦接到所述支撑主体(40)以使所述基板(20)围绕旋转轴(44)移动一角度(12)，以将所述基板的取向从传递取向或水平取向(I)改变为在处理区域(72)处的处理取向或竖直取向(II)；和

线性运动机构(46)，所述线性运动机构耦接到所述支撑主体(40)，以当所述基板(20)处于所述处理取向(II)时相对于所述沉积源(30)的所述纵轴(31)平移所述基板(20)。

2.根据权利要求1所述的摆动设备(10)，其中所述支撑主体(40)被构造为在从所述传递取向(I)到所述处理取向(II)的移动期间在垂直于所述沉积源(30)的所述纵轴(31)的水平线性方向上移动所述基板(20)，反之亦然；并且在邻近所述处理区域(72)的所述基板(20)的边缘与所述沉积源(30)的所述纵轴(31)之间提供线性偏移(48)。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的摆动设备(10)，其中所述旋转机构(42)由所述线性运动机构(46)支撑。

4.根据前述权利要求中任一项所述的摆动设备(10)，所述摆动设备还包括：

保护单元(50)，所述保护单元用于沉积源，以减少所述处理区域中的颗粒。

5.根据权利要求4所述的摆动设备(10)，其中所述保护单元(50)包括至少一第一波纹管元件(52)，并且所述旋转机构(42)包括位于所述第一波纹管元件(52)内的至少一旋转轴(47)。

6.根据权利要求5所述的摆动设备，其中所述线性运动机构设置在所述第一波纹管元件内。

7.根据权利要求4或5所述的摆动设备(10)，其中所述保护单元(50)包括至少一第二波纹管元件，并且所述线性运动机构(46)包括位于所述第二波纹管元件内的线性导向件(49)。

8.根据前述权利要求中任一项所述的摆动设备(10)，其中所述支撑主体(40)包括用于加热所述基板(20)的基座。

9.根据前述权利要求中任一项所述的摆动设备(10)，其中所述旋转机构(42)包括至少两个花键轴连接元件(421)和至少两个旋转电机(422)。

10.根据前述权利要求中任一项所述的摆动设备(10)，其中所述基板(20)通过夹具保持到所述支撑主体(40)。

11.一种用于处理基板(20)的方法(100)，所述方法包括：

将所述基板(20)保持(102)在支撑主体(40)上|；

相对于具有纵轴(31)的用于处理所述基板(20)的沉积源(30)移动(104)所述基板(20)，所述基板(20)的所述移动是通过耦接到所述支撑主体(40)的旋转机构(42)而围绕旋转轴(44)经过一角度(12)进行的，以将所述基板的取向从传递取向或水平取向(I)改变为处理取向或竖直取向(II)；

用所述沉积源(30)处理(106)所述基板(20)的表面；和

当所述基板(20)处于所述处理取向(II)时，通过耦接到所述支撑主体(40)的线性运动机构(46)相对于所述沉积源(30)的所述纵轴(31)平移(108)所述基板(20)。

12.根据权利要求11所述的方法(100)，所述方法还包括：

在从所述传递取向(I)到所述处理取向(II)的所述移动期间，在垂直于所述沉积源(30)的所述纵轴(31)的水平线性方向上移动所述基板(20)，反之亦然。