[发明专利]粒子检测装置在审
| 申请号: | 201880094629.3 | 申请日: | 2018-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN112334755A | 公开(公告)日: | 2021-02-05 |
| 发明(设计)人: | 中井贤也;榎望 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
| 主分类号: | G01N15/14 | 分类号: | G01N15/14 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 马建军;邓毅 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 粒子 检测 装置 | ||
1.一种粒子检测装置,其检测对象空间内浮游的粒子,其特征在于,所述粒子检测装置具有:
第1光源,其射出在所述对象空间内行进的第1照射光;
第1聚光部件,其具有凹状的第1反射面;
第2聚光部件,其具有隔着所述对象空间而与所述第1反射面对置的凹状的第2反射面;
第2光源,其射出第2照射光;以及
第1受光元件,其输出表示与第1入射光的强度对应的值的第1检测信号,
在所述第1光源射出所述第1照射光时,所述第1受光元件检测所述第1照射光被照射到存在于所述对象空间内的预定的检测位置处的粒子而产生的散射光作为所述第1入射光,
在所述第2光源射出所述第2照射光时,所述第1受光元件检测所述第2照射光中的由所述第1反射面反射后的光以及由所述第1反射面和所述第2反射面双方反射后的光作为所述第1入射光。
2.根据权利要求1所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述第1聚光部件的所述第1反射面是具有位于所述对象空间内的第1焦点和位于所述对象空间外的第2焦点的椭圆面状的。
3.根据权利要求2所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述第2聚光部件的所述第2反射面是以所述第1焦点为中心点的球面状的。
4.根据权利要求2或3所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述检测位置是所述第1焦点的位置。
5.根据权利要求1~4中的任意一项所述的粒子检测装置,其特征在于,
在所述第1光源射出所述第1照射光时,所述第1受光元件检测所述散射光中的由所述第1反射面反射而入射到所述第1受光元件的第1路径中行进的光、由所述第2反射面反射且由所述第1反射面反射而入射到所述第1受光元件的第2路径中行进的光、以及直接入射到所述第1受光元件的第3路径中行进的光,作为所述第1入射光,
在所述第2光源射出所述第2照射光时,所述第1受光元件检测所述第2照射光中的由所述第1反射面反射后的第4路径中行进的光、以及由所述第1反射面和所述第2反射面双方反射后的第5路径中行进的光,作为所述第1入射光。
6.根据权利要求1~5中的任意一项所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述粒子检测装置还具有光路径变更部件,
从所述第2光源射出的所述第2照射光的一部分经由所述光路径变更部件而朝向所述第1反射面行进,
从所述对象空间朝向所述光路径变更部件的光的一部分经由所述光路径变更部件而朝向所述第1受光元件行进。
7.根据权利要求1~6中的任意一项所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述第1受光元件和所述第2光源配置于在光学上彼此共轭的位置。
8.根据权利要求1~7中的任意一项所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述粒子检测装置还具有控制部,在所述第1光源射出所述第1照射光时,该控制部根据从所述第1受光元件输出的所述第1检测信号判定所述粒子的浓度。
9.根据权利要求8所述的粒子检测装置,其特征在于,
在所述第2光源射出所述第2照射光时,所述控制部根据从所述第1受光元件输出的所述第1检测信号,变更从所述第1光源射出的所述第1照射光的强度。
10.根据权利要求1~7中的任意一项所述的粒子检测装置,其特征在于,
所述粒子检测装置还具有第2受光元件,该第2受光元件输出表示与第2入射光的强度对应的值的第2检测信号,
所述第1聚光部件具有使从所述对象空间向所述第2受光元件行进的所述第2入射光通过的光通过区域。
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