[发明专利]用于运输载体的设备、用于竖直地处理基板的处理系统以及切换载体的运输路径的方法有效
| 申请号: | 201880093733.0 | 申请日: | 2018-05-24 |
| 公开(公告)号: | CN112189058B | 公开(公告)日: | 2022-12-20 |
| 发明(设计)人: | 奥利弗·海默尔;克里斯蒂安·沃尔夫冈·埃曼;拉尔夫·林登贝格 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
| 主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;B65G49/07;C23C14/56;H01J37/32;H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 运输 载体 设备 竖直 处理 系统 以及 切换 路径 方法 | ||
描述了一种用于在真空腔室(210)中运输载体(10)的设备(100)。设备(100)包括在运输方向(T)上沿着第一运输路径(T1)设置的第一运输系统(101)。第一运输系统(101)包括第一下部轨道区段(11L)和第一上部轨道区段(11U)。第一上部轨道区段(11U)包括具有用于在载体运输空间(15)中非接触地保持载体(10)的一个或多个第一致动器(121)的一个或多个磁性轴承(120)。另外,第一上部轨道区段(11U)包括具有用于在所述运输方向(T)移动载体(10)的一个或多个第二致动器(132)的驱动单元(130)。一个或多个第一致动器(121)和一个或多个第二致动器(132)布置在载体运输空间(15)上方。另外,设备(100)包括:路径切换组件(150),用于在路径切换方向(S)上将载体从所述第一运输路径(T1)移开;以及致动器(124),用于修改第一下部轨道区段(11L)与第一上部轨道区段(11U)之间的距离。
技术领域
本公开内容的实施方式涉及用于运输载体、特别是在处理大面积基板期间使用的载体的设备和方法。更具体地,本公开内容的实施方式涉及用于非接触地运输载体的设备和方法,该设备和方法可被采用在用于竖直基板处理(例如,在大面积基板上沉积材料以用于显示器生产)的处理系统中。特别地,本公开内容的实施方式涉及具有路径切换组件的用于运输载体的设备,该路径切换组件被配置为在两个或更多个运输路径之间移动载体,并且涉及用于在竖直基板处理系统中改变载体的运输路径的方法。
背景技术
用于在基板上进行层沉积的技术包括例如溅射沉积、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和热蒸发。所涂覆的基板可用于若干应用和若干技术领域中。例如,所涂覆的基板可用于显示装置领域中。显示装置可用于制造电视机屏幕、计算机监视器、移动电话、其他手持装置以及用于显示信息的类似者。典型地,通过用不同材料的层的堆叠涂覆基板生产显示器。
为了沉积层堆叠,可使用处理模块的直列布置。直列处理系统包括多个连串的处理模块,诸如沉积模块和任选地另外的处理模块,例如清洁模块和/或蚀刻模块,其中处理方面在处理模块中连串地进行,使得可在直列处理系统中连续地或准连续地处理多个基板。
在处理期间,可由载体、即用于承载基板的承载装置承载基板。典型地,使用一个或多个运输系统来将载体运输通过真空腔室。运输系统可被配置为用于沿着一个或多个运输路径运送载体。至少两个运输路径可彼此靠近地设置在真空系统中,例如用于在向前方向上运输载体的第一运输路径和用于在与向前方向相反的返回方向上运输载体的第二运输路径。
常规的运输系统具有被配置为支撑载体并沿着运输路径运送载体和/或将载体从一个运输路径运送到另一个运输路径(也被称为“路径切换”或“轨道切换”)的辊或其他支撑件。载体移动期间的在载体与载体支撑件之间的摩擦可能会产生颗粒,这些颗粒会不利地影响真空系统内的真空状况。颗粒可能会污染沉积在基板上的层,并且所沉积的层的品质可能会降低。因此,需要的是在减少或最小化颗粒产生的情况下在处理系统中运输载体。另外,具有挑战的是,例如以低成本提供用于高温真空环境的稳健载体运输系统。
因此,持续需要用于运输载体和改变载体的运输路径的设备和方法以及提供克服现有技术的至少一些问题的改进的真空处理系统。
发明内容
鉴于上文,提供了根据独立权利要求的用于在真空腔室中运输载体的设备、用于竖直地处理基板的处理系统以及切换载体的运输路径的方法。另外的方面、优点和特征从从属权利要求、说明书和附图中显而易见。
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