[发明专利]成像数据处理装置有效

专利信息
申请号: 201880093329.3 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN112136041B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 山口真一 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N27/623
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 数据处理 装置
【说明书】:

图像制作部(33)制作与相同的试样上的测定区域有关的每m/z的MS成像图像和光学图像,图像位置对准处理部(34)使分辨率一致并且进行图像位置对准。回归分析执行部(35)将基于MS成像数据的矩阵设为解释变量,将基于光学图像制作的以每个像素的亮度值为元素的矩阵设为被解释变量,执行PLS,来制作回归模型。图像制作部(33)将解释变量、即MS成像数据的各像素中的每个质荷比值的信号强度值应用于回归模型,来制作预测图像。显示处理部(39)将参照图像和预测图像显示在显示部(5)的画面上。由此,作业者能够确认MS成像图像与光学图像的分布的类似性的程度。其结果,能够评价所制作出的回归模型的准确性。

技术领域

本发明涉及一种成像数据处理装置,该成像数据处理装置利用成像质谱分析装置等对在试样上的二维的测定区域内的许多微小区域中分别获得的数据进行处理,由此能够制作示出该试样中的特定物质的二维分布的图像或者导出关于该试样的有用的信息。

背景技术

成像质谱分析装置是能够一边通过光学显微镜观察生物体组织切片等试样的表面的形态一边对相同的试样表面上的具有特定质荷比m/z的离子的二维的强度分布进行测定的装置(参照非专利文献1)。通过使用成像质谱分析装置观察与在例如癌症等特定疾病中特征性地出现的源自化合物的离子有关的二维强度分布图像(质谱分析成像图像),能够掌握该疾病的扩散情况等。因此,近年来,盛行以下研究:利用成像质谱分析装置来对以生物体组织切片等为对象的药物动态解析或各器官中的化合物分布的不同、或者癌症等的病理部位与正常部位之间的化合物分布的差异等进行解析。

一般来说,具有某个质荷比的离子的二维强度分布示出特定物质的分布,因此,能够基于质谱分析成像图像,来获得例如与特定疾病相关联的化合物,即生物标记物在生物体组织内如何分布等之类的有用的信息。但是,在成像质谱分析装置中获得的数据的量庞大,在作为观察对象的化合物的种类不明的情况下,作业者在调查哪一个质荷比下的质谱分析成像图像是有用的信息上需要很大的劳力。

对于这样的课题,在专利文献1中记载有:对通过光学显微镜获得的光学图像、荧光图像等参照图像与任意质荷比下的质谱分析成像图像进行图像的位置对准和空间分辨率的调整,之后,对两个图像的相同位置的像素的数据执行统计解析处理,计算表示两个图像的分布的类似性的指标值。另外,在该文献中记载有利用偏最小二乘回归(PartialLeast Squares resgression=PLS)等回归分析作为统计解析方法。在该方法中,由于质谱分析成像图像与参照图像的二维分布的相关性越高,PLS的分数越高,因此能够推定具有赋予该分数高的质谱分析成像图像的质荷比的离子呈接近参照图像的二维强度分布。这些信息是在探索生物标记物的方面非常重要的信息。

另外,在本申请人先申请的PCT/JP2018/003757号中记载有:将基于针对试样收集到的遍及规定质荷比范围的质谱分析成像数据来制作出的二维矩阵设为解释变量,将基于参照图像的像素值数据来制作出的一维矩阵设为被解释变量(目标变量),执行PLS回归分析,来求出回归系数的一维矩阵,根据其结果来制作表示质荷比与回归系数之间的关系的谱状的曲线图并进行显示。如果观察该曲线图,则一眼就知晓回归系数的绝对值大的质荷比,因此,作业者能够容易地发现示出接近参照图像的二维强度分布的质荷比。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2017/002226号刊

非专利文献

非专利文献1:“iMScopeTRIOイメージング質量顕微鏡”、[在线]、[平成30年3月28日检索]、株式会社岛津制作所、因特网<URL:https://www.an.shimadzu.co.jp/bio/imscope/>。

发明内容

发明要解决的问题

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