[发明专利]成像数据处理装置有效
申请号: | 201880093329.3 | 申请日: | 2018-05-30 |
公开(公告)号: | CN112136041B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 山口真一 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;G01N27/623 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 数据处理 装置 | ||
1.一种成像数据处理装置,通过基于针对试样的测定成像数据和构成参照图像的参照成像数据进行解析处理来求取与所述试样有关的信息,所述测定成像数据是针对所述试样上的二维的测定区域内的每个微小区域通过获取谱的规定的测定方法获得的数据的集合,所述参照图像是试样上的每个微小区域的强度信息的二维分布,所述成像数据处理装置的特征在于,具备:
a)回归分析执行部,其针对第一成像数据和第二成像数据,执行以该第一成像数据为解释变量并且以该第二成像数据为被解释变量的回归分析,来制作回归模型,其中,所述第一成像数据是所述测定成像数据的整体或一部分,所述第二成像数据是所述参照成像数据的整体或一部分,所述第二成像数据与第一成像数据在空间上相对应;以及
b)预测图像制作部,其通过将所述第一成像数据应用于所述回归模型,来制作基于回归分析结果的预测图像。
2.根据权利要求1所述的成像数据处理装置,其特征在于,
还具备残差图像制作部,该残差图像制作部基于所述预测图像计算每个微小区域的预测残差,制作残差图像并使该残差图像显示在显示部的画面上。
3.根据权利要求1所述的成像数据处理装置,其特征在于,
还具备分析结果图像制作部,该分析结果图像制作部使所述预测图像和所述参照图像均显示在显示部的画面上。
4.根据权利要求1所述的成像数据处理装置,其特征在于,还具备:
相关系数计算部,其计算相关系数,该相关系数表示所述预测图像与所述参照图像之间以空间上相对应的像素为单位的相关性;以及
显示处理部,其使由所述相关系数计算部计算出的相关系数显示在显示部的画面上。
5.根据权利要求1所述的成像数据处理装置,其特征在于,还具备:
回归分析结果评价部,其针对所述预测图像与所述参照图像之间在空间上相对应的每个像素,实施像素值的相减或相除,来计算出计算值;以及
差分图像制作部,其基于由所述回归分析结果评价部计算出的每个像素的计算值来制作图像,并使该图像显示在显示部的画面上。
6.根据权利要求1~5中的任一项所述的成像数据处理装置,其特征在于,
所述规定的测定方法是质谱分析法,所述测定成像数据是针对通过质谱分析获得的轮廓谱中的各峰对在所使用的质谱分析装置的装置精度程度以内的范围内的信号强度进行积分来作为该峰的信号强度的数据。
7.根据权利要求6所述的成像数据处理装置,其特征在于,
所述回归分析是偏最小二乘回归分析。
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