[发明专利]激光气体再生装置和电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种激光气体再生装置，其对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到所述至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，所述第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的作为新激光气体的第1激光气体，所述第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气在内的作为新激光气体的第2激光气体，其中，所述激光气体再生装置具有：

数据取得部，其取得被供给到所述至少一个ArF准分子激光装置的所述第2激光气体的供给量的数据；

氙添加部，其将包含氩气、氖气和比所述第1浓度高的第2浓度的氙气在内的作为新激光气体的第3激光气体添加到所述再生气体中；以及

控制部，其根据所述第2激光气体的所述供给量对基于所述氙添加部的所述第3激光气体的添加量进行控制。

2.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述控制部对基于所述氙添加部的所述第3激光气体的添加量进行控制，以使其与所述供给量成比例。

3.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述激光气体再生装置还具有计测部，所述计测部计测所述供给量，并向所述数据取得部发送所述供给量的数据。

4.根据权利要求3所述的激光气体再生装置，其中，

所述计测部包含质量流量计，该质量流量计被配置于连接在所述第2激光气体供给源与所述至少一个ArF准分子激光装置之间的配管。

5.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述数据取得部从质量流量计接收计测数据，由此取得所述供给量的数据，该质量流量计被配置于连接在所述至少一个ArF准分子激光装置与所述第2激光气体供给源之间的配管。

6.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述数据取得部从所述至少一个ArF准分子激光装置接收所述供给量的数据，由此取得所述供给量的数据。

7.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述激光气体再生装置还具有再生气体罐，所述再生气体罐收纳被所述氙添加部添加了所述第3激光气体的所述再生气体并使其混合。

8.根据权利要求1所述的激光气体再生装置，其中，

所述至少一个ArF准分子激光装置包含多个ArF准分子激光装置。

9.根据权利要求8所述的激光气体再生装置，其中，

所述供给量是分别被供给到所述多个ArF准分子激光装置的所述第2激光气体的供给量的总和。

10.一种激光气体再生装置，其对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到所述至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，所述第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的第1激光气体，所述第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气的第2激光气体，其中，所述激光气体再生装置具有：

数据取得部，其取得在通过所述至少一个ArF准分子激光装置中的任意一个之前供给到所述至少一个ArF准分子激光装置的所述第2激光气体的供给量的数据；

氙添加部，其将包含氩气、氖气和比所述第1浓度高的第2浓度的氙气在内的第3激光气体添加到所述再生气体中；以及

控制部，其根据所述第2激光气体的所述供给量对基于所述氙添加部的所述第3激光气体的添加量进行控制。

11.根据权利要求10所述的激光气体再生装置，其中，

所述控制部对基于所述氙添加部的所述第3激光气体的添加量进行控制，以使其与所述供给量成比例。