[发明专利]成膜用掩模以及使用其之显示装置的制造方法

说明书

本发明的成膜用掩模(50a)，包括：设置为框状的掩模主体(41)、设置为从掩模主体(41)向框内突出的突出部(42a)，并且与被成膜基板相对地配置，所述成膜用掩模(50a)的特征在于，在突出部(42a)的表面上，设置有凹部(R)，上述凹部以不到达突出部(42a)的框内侧的端部。

技术领域

本发明是关于成膜掩模以及使用其之显示装置的制造方法。

背景技术

近年以来，作为代替液晶显示装置的显示装置，使用有机EL(electroluminescence)元件的自发光型有机EL显示装置引起关注。在此，在有机EL显示装置中，为了抑制水分、氧等的混入导致的有机EL元件的劣化，而提案了将覆盖有机EL元件的密封膜由无机膜与有机膜的层叠膜来构成的密封结构。

例如，专利文献1公开了一种显示装置，该显示装置包括：薄膜密封层，该薄膜密封层包括由CVD(chemical vapor deposition)法等形成的无机膜层与由喷墨法等形成的有机膜层交替地配置的层叠结构，并且覆盖有机发光元件。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-86415号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

近年以来，提案了在有机EL显示装置中，使进行图像显示且设置为略矩形状的显示区域的一边的一部分凹陷，并且在其凹陷的切口部中装载摄像头、环境传感器等的画面形状。因此，在包括这样的画面形状的有机EL显示装置中，需要以覆盖构成显示区域的有机EL元件的方式形成密封膜，从而需要使形成密封膜的无机膜时所使用的成膜用掩模的开口部的形状与显示区域的平面形状对应。在此应用的成膜用掩模在其开口部的一边中，与显示区域的切口部对应，包括在俯视下向内侧突出的突出部，但是在其突出部中，将成膜用掩模拉伸焊接于成膜装置内的框架从而作用的张力不作用，因此存在突出部从被成膜基板的表面上浮的问题。这样的话，无机膜绕回于突出部与被成膜基板之间，其周边中的无机膜的膜厚变薄，或无机膜被形成于过大的范围，因此降低密封功能的可靠性。

本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于抑制成膜用的突出部的上浮。

解决问题的手段

为了达成上述目的，本发明所述涉及的成膜用掩模包括：设置为框状的掩模主体、设置为从上述掩模主体向框内突出的突出部，并且与被成膜基板相对地配置，所述成膜用掩模特征在于，在上述突出部的上述被成膜基板侧的表面上，设置有凹部，上述凹部不到达该突出部的框内侧的端部。

发明效果

根据本发明，在从成膜用掩模的掩模主体向框内突出的突出部的被成膜基板侧的表面上设置有凹部，凹部不到达突出部的框内侧的端部，因此可以抑制成膜用掩模的突出部的上浮。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的概略构成的俯视图。

图2是表示沿着图1中的II-II线的有机EL显示装置的概略构成的剖视图。

图3是表示本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的显示区域的详细构成的剖视图。

图4是表示本发明的第一实施方式所涉及的构成有机EL显示装置的有机EL层的剖视图。

图5是表示本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的边框区域的详细构成的剖视图。

图6是使用于本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的制造方法的成膜用掩模的俯视图。

图7是扩大使用于本发明的第一实施方式所涉及的有机EL显示装置的制造方法的成膜用掩模的要部的里面侧的俯视图。