[发明专利]用于高功率激光系统的金刚石涂层复合材料散热器在审
申请号: | 201880089792.0 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN111742405A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | P·塔耶巴提;M·雷耶斯;吴秀英 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | H01L23/373 | 分类号: | H01L23/373;H01S5/024;C23C16/27;H01S3/04 |
代理公司: | 南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273 | 代理人: | 常晓慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 功率 激光 系统 金刚石 涂层 复合材料 散热器 | ||
1.一种制备散热器的方法,所述方法包括:
提供一散热器,其包括导热金属和难熔金属的金属-基质复合材料;
对所述散热器的至少部分表面进行蚀刻,以在其上形成包括难熔金属及基本上不含导热金属的贫化区;及
在贫化区上沉积包括金刚石的涂层。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述导热金属包括Cu或Ag中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述难熔金属包括W、Mo或Ti中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的方法,其中(i)所述导热金属包括Cu和(ii)所述难熔金属包括W。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述涂层采用化学气相沉积法沉积。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述贫化区的厚度范围是大约1μm至大约10μm。
7.根据权利要求1所述的方法,其中所述涂层的厚度范围是大约5μm至大约20μm。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述散热器的至少部分表面采用包括(i)氯化铁,(ii)乙酸和过氧化氢,或(iii)盐酸和过氧化氢的溶液蚀刻。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述散热器的至少部分表面位于散热器内部管道内。
10.根据权利要求1所述的方法,其中(i)所述散热器包括流体入口和流体出口,和(ii)所述散热器的至少部分表面位于散热器与流体入口和流体出口流体上连接的部分内。
11.根据权利要求1所述的方法,进一步包括将光束发射器与散热器热连接。
12.根据权利要求1所述的方法,其中蚀刻所述散热器表面的第一部分,进一步包括,在蚀刻所述散热器表面的第一部分之前,掩蔽所述散热器表面的第二部分,从而避免将其蚀刻。
13.根据权利要求1所述的方法,进一步包括在沉积涂层之前,将贫化区的至少一部分粗糙化处理。
14.一种制备散热器的方法,所述方法包括:
提供一散热器,其包括导热金属和难熔金属的金属-基质复合材料,所述散热器包含第一浓度的导热金属;
对所述散热器的至少部分表面进行蚀刻,去除其上至少部分导热金属,从而在所述至少部分表面上形成包括难熔金属的贫化区;及
在贫化区上沉积包括金刚石的涂层。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述贫化区包括第二浓度的导热金属,所述第二浓度低于所述第一浓度。
16.根据权利要求15所述的方法,其中所述贫化区中的导热金属的浓度沿远离散热器表面的方向增加。
17.根据权利要求14所述的方法,其中所述贫化区基本上不含导热金属。
18.根据权利要求14所述的方法,其中所述导热金属包括Cu或Ag中的至少一种。
19.根据权利要求14所述的方法,其中所述难熔金属包括W、Mo或Ti中的至少一种。
20.根据权利要求14所述的方法,其中(i)所述导热金属包括Cu和(ii)所述难熔金属包括W。
21.根据权利要求14所述的方法,其中所述涂层采用化学气相沉积法沉积。
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