[发明专利]清洁装置

说明书

带电粒子束装置(110)具备：镜筒(111)，其具备带电粒子源(112)；试样室(101)，其设置被照射带电粒子束的试样；热释放型电子源(102)，其配置在试样室(101)内，维持为比其内壁低的电位，其中，通过电子源电源(103)的电压施加产生加热电流而从热释放型电子源(102)释放的电子(e‑)，进行试样室(101)内的清洁。通过偏置电源(104)向热释放型电子源(102)施加负电压，维持为比试样室(101)的内壁低的电位。施加到热释放型电子源(102)的负电压的大小理想的是30～1000V，优选60～120V左右。

技术领域

本发明涉及带电粒子束装置，尤其涉及减少因污染造成的影响的清洁技术。

背景技术

在以透射型电子显微镜(TEM/STEM)、扫描型电子显微镜(SEM)等电子显微镜等为代表的带电粒子束装置中，由于带电粒子束的照射，碳氢化合物等堆积到试样等被照射物上，由此产生污染。在产生了污染的情况下，例如电子显微镜像的S/N比恶化，或试样表面形状变化，产生试样信息丢失而难以进行其观察和分析等各种问题。

为了减少这样的因污染造成的影响，作为现有技术，已知使用从加热器等发光源照射的放射热加热装置本体的方法(参照专利文献1)、照射从准分子灯放射的紫外光的方法(参照专利文献2)、生成等离子体而使用激活的氧自由基和离子的方法(参照专利文献3)等。另一方面，为了去除使用电子显微镜观察的试样表面的污染，已知使用W钨丝(Tungstenfilament)的方法(参照非专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-103072号公报

专利文献2：日本特开2015-69734号公报

专利文献3：日本特开2016-54136号公报

非专利文献

非专利文献1：J.T.Fourie,“The elimination of surface-originatingcontamination in electron microscopres”,Optik,52(1978/79),No.5,421～426

发明内容

发明要解决的课题

上述的现有的许多方法存在以下的问题，即由于因热产生的排气、生成等离子体时的气体导入等的影响，难以将装置内部保持为超高真空。另外，难以适用于对因加热产生的热、照射的紫外光抗性弱的试样等被照射物。另外，在非专利文献1中，企图在观察前去除作为观察对象的试样的表面的污染，而不企图去除试样室内的污染。

本发明的目的在于：解决这样的带电粒子束装置的问题，提供能够减少因试样室内的污染造成的影响，保持为高真空的清洁装置。

用于解决课题的方法

为了达到上述目的，在本发明中，提供一种清洁装置，其具备：镜筒，其具备带电粒子源；试样室，其被设置照射来自带电粒子源的带电粒子束的试样；热释放型电子源，其配置在试样室内，其中，通过从热释放型电子源释放的电子，进行试样室内的清洁。

另外，为了达到上述目的，在本发明中，提供一种清洁装置，其具备：镜筒，其具备带电粒子源；试样室，其设置被照射来自带电粒子源的带电粒子束的试样；电子源，其设置在试样室内，相对于试样室保持为负电位，其中，通过从电子源释放的电子，进行试样室内的清洁。

发明效果

根据本发明，能够提供一种清洁装置，其不使装置复杂化，就能够保持装置内部的超高真空地进行试样室的清洁。

附图说明

图1是表示实施例1的具备清洁装置的带电粒子束装置的整体结构的一个例子的图。