[发明专利]清洁装置有效

专利信息
申请号: 201880088844.2 申请日: 2018-02-07
公开(公告)号: CN111727488B 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 佐藤龙树;戴维·霍伊尔 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术;日立高新技术加拿大有限公司
主分类号: H01J37/16 分类号: H01J37/16;H01J1/13
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 曾贤伟;范胜杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 清洁 装置
【权利要求书】:

1.一种清洁装置,其特征在于,具备:

第一热释放型电子源,其配置于试样室内,该试样室与具有带电粒子源的镜筒连接,

通过从上述第一热释放型电子源释放的电子,进行上述试样室内的清洁,

在向设置于上述试样室内的试样台施加比上述试样室的内壁低的电压的状态下,向上述第一热释放型电子源供给电流。

2.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

上述第一热释放型电子源是细丝。

3.根据权利要求2所述的清洁装置,其特征在于,

上述细丝是钨丝。

4.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:电子源电源,其使加热电流流过上述第一热释放型电子源。

5.根据权利要求4所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:检测器,其对流过上述第一热释放型电子源的电流进行检测。

6.根据权利要求5所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:控制部,其被输入上述检测器的输出,

上述控制部根据上述检测器的输出,输出上述试样室内的清洁度。

7.根据权利要求5所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:控制部,其被输入上述检测器的输出,

上述控制部根据上述检测器的输出,对从上述电子源电源流过上述第一热释放型电子源的上述加热电流进行控制。

8.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:真空仪,其对上述试样室的真空度进行检测。

9.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

上述第一热释放型电子源具备有源反射电极或无源反射电极。

10.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

上述镜筒和上述试样室是电子显微镜的镜筒和试样室。

11.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:偏置电源,其向上述第一热释放型电子源施加偏置电压。

12.根据权利要求11所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备向试样台施加比向上述第一热释放型电子源施加的偏置电压低的电压的单元。

13.根据权利要求11所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:电子源电源,其使加热电流流过上述第一热释放型电子源,

在上述电子源电源使加热电流流过上述第一热释放型电子源之前,上述偏置电源向上述第一热释放型电子源施加偏置电压。

14.根据权利要求11所述的清洁装置,其特征在于,

该清洁装置还具备:电子源电源,其使加热电流流过上述第一热释放型电子源,

在上述电子源电源停止使加热电流流过上述第一热释放型电子源之后,上述偏置电源停止向上述第一热释放型电子源施加偏置电压。

15.根据权利要求11所述的清洁装置,其特征在于,

上述偏置电源向上述第一热释放型电子源施加30~1000V的电压。

16.根据权利要求11所述的清洁装置,其特征在于,

上述偏置电源向上述第一热释放型电子源施加60~120V的电压。

17.根据权利要求1所述的清洁装置,其特征在于,

在上述试样室内还配置有第二热释放型电子源。

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