[发明专利]光刻设备和方法

说明书

一种光刻设备包括投影系统，所述投影系统包括位置传感器用于测量投影系统的光学元件的位置。位置传感器以传感器框架为参考。阻尼致动器阻尼传感器框架的振动。控制装置驱动致动器，并且配置成从加速度信号和传感器框架位置信号中的至少一种信号导出传感器框架阻尼力信号，从位置信号导出估计的视线误差，根据传感器框架阻尼力信号和估计的视线误差确定致动器驱动信号，使用致动器驱动信号驱动致动器，以阻尼传感器框架并至少部分地补偿估计的视线误差。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年1月4日提交的欧洲申请18150316.0的优先权，该欧洲申请通过引用全文并入本文。

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和一种减小这种光刻设备中的视线误差的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分)上的机器。光刻设备能够例如用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在IC的单层上形成的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一个或几个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来辐照每个目标部分；在扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描衬底来辐照每个目标部分。也有可能通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。

所述光刻设备包括投影系统，所述投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。投影系统包括诸如反射光学元件(例如反射镜)或透射光学元件(例如透镜)之类的光学元件。光学元件可以通过光学元件致动器来定位：光学元件致动器可以例如被驱动以抵消振动、热效应、定位不准确度等。因此，光学元件的位置使用位置传感器来测量。为了检测光学元件的位置，可以设置位置传感器来测量光学元件的位置。光学元件致动器布置在力框架与光学元件之间，即作用在力框架与光学元件之间。为了提供光学元件的位置的准确位置感测，设置了传感器框架，位置传感器感测光学元件相对于传感器框架的位置。传感器框架通过使用振动隔离器由力框架支撑。因此，振动隔离器旨在使作用在力框架中的振动远离传感器框架，从而使干扰尽可能地远离感测光学元件的位置的位置传感器。

与传感器框架相关联的问题是，作用在力框架中的振动和力框架的移动可以经由振动隔离器转化为传感器框架上的干扰力。当位置传感器测量光学元件相对于传感器框架的位置时，传感器框架上的干扰力可能转化为位置误差。可以设置传感器框架致动器以阻尼传感器框架，例如，从而抵消传感器框架的加速度和/或传感器框架的移位。为此，可以设置加速度传感器和/或传感器框架位置传感器以测量加速度响应。传感器框架和传感器框架致动器的位置可以被驱动以至少部分地补偿这种加速度和/或移位，从而尝试补偿传感器框架上的这种干扰。

然而，发明人已经观察到，补偿传感器框架上的这种干扰的尝试似乎是具有相反的效应，并且导致投影准确度的整体降低，而不是所预想的投影准确度的提高。特别是，视线误差似乎增加，而不是预想的减少。

发明内容

期望促进将视线误差保持为较低。

根据本发明的一方面，提供了一种光刻设备，包括：

投影系统，配置为将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中所述投影系统包括：

i.多个光学元件，配置成与所述图案化的辐射束光学地相互作用以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，

ii.多个光学元件位置传感器，